[实用新型]光刻胶纳米压印复合模板

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种纳米压印器件，具体涉及一种光刻胶纳米压印复合模板。

背景技术

光刻胶又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像，因此光刻胶被广泛地应用于电路板的制作之中。

对于目前的纳米压印复合模板，其压印结构都是印制与PDMS层上的。中国专利CN203630508U和CN203025473U便公开了两种采用PDMS层印制压印结构的纳米压印复合模板。然而PDMS层的制作成本普遍偏高，并且其固化所需要的时间较长，一般需要3个小时左右，这样的话对于纳米压印复合模板的制作来讲，一定程度影响了其生产效率。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种可以降低成本、提高生产效率的光刻胶纳米压印复合模板。

为了达到上述目的，本实用新型的技术方案如下：

光刻胶纳米压印复合模板，其包括：

基板；

光刻胶层，其设置于基板上，该光刻胶层的表面具有压印结构。

本实用新型通过设置光刻胶层，并在其上印制压印结构，用以替代现有技术中的具有压印结构的PDMS层，利用光刻胶的特性，相较于PDMS层可以降低制造成本，同时光刻胶由于对光敏感，其固化所需时间相较于PDMS层可以大大降低(光刻胶的固化时间大概需要10分钟左右)，从而可以使得纳米压印复合模板的生产效率得到提高。同时，使用光刻胶层还可以省去胶黏层的使用，进一步地降低制造成本。

在上述技术方案的基础上，本实用新型还可以作如下改进：

作为优选的方案，上述的光刻胶层为UV胶层。

采用上述优选的方案，利用UV胶的特性，可以进一步地提高纳米压印复合模板的生产效率。

作为优选的方案，上述的基板为塑料板或者玻璃板。

采用上述优选的方案，可以提高整个纳米压印复合模板的稳固性和使用寿命。

作为优选的方案，上述的塑料板为PET或PC。

采用上述优选的方案，可以进一步地提高整个纳米压印复合模板的稳固性和使用寿命。

附图说明

图1为本实用新型的光刻胶纳米压印复合模板的结构示意图。

其中，1.基板2.光刻胶层21压印结构。

具体实施方式

下面结合附图详细说明本实用新型的优选实施方式。

为了达到本实用新型的目的，如图1所示，在本实用新型的光刻胶纳米压印复合模板的其中一些实施方式中，其包括：基板1；光刻胶层2，其设置于基板1上，该光刻胶层2的表面具有压印结构21。本复合模板通过设置光刻胶层，并在其上印制压印结构，用以替代现有技术中的具有压印结构的PDMS层，利用光刻胶的特性，相较于PDMS层可以降低制造成本，同时光刻胶由于对光敏感，其固化所需时间相较于PDMS层可以大大降低(光刻胶的固化时间大概需要10分钟左右)，从而可以使得纳米压印复合模板的生产效率得到提高。同时，使用光刻胶层还可以省去胶黏层的使用，进一步地降低制造成本。

为了进一步地优化本实用新型的实施效果，在本实用新型的光刻胶纳米压印复合模板的另一些实施方式中，在上述内容的基础上，上述的光刻胶层2为UV胶层。采用该实施方式的方案，利用UV胶的特性，可以进一步地提高纳米压印复合模板的生产效率。当然，除了UV胶层，我们也可以采用其他已知的光刻胶类型，在此不再一一列举。

为了进一步地优化本实用新型的实施效果，在本实用新型的光刻胶纳米压印复合模板的另一些实施方式中，在上述内容的基础上，上述的基板为塑料板或者玻璃板，该塑料板具体可以为PET或者PC。采用该实施方式的方案，可以提高整个纳米压印复合模板的稳固性和使用寿命。

本实用新型的光刻胶纳米压印复合模板的制作过程为：在基板上涂覆UV胶等光刻胶，然后采用柔性压印的方式在上面压印制作出微纳结构，脱模后即得到本实用新型的光刻胶纳米压印复合模板。

以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。