[实用新型]一种HDI板铜箔蚀刻液的精确配制装置有效
| 申请号： | 201420651457.4 | 申请日： | 2014-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN205115604U | 公开（公告）日： | 2016-03-30 |
| 发明（设计）人： | 詹有根;零上锐 | 申请（专利权）人： | 临安振有电子有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/00 | 分类号： | C23F1/00;B01F15/02 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 311301 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种HDI板铜箔蚀刻液的精确配制装置，包括一个蚀刻液配制槽，添加剂1贮槽、添加剂2贮槽以及两个预分散槽，添加剂1贮槽、添加剂2贮槽的位置高于蚀刻液配制槽；添加剂1贮槽、添加剂2贮槽与预分散槽之间通过管道、阀门连接，添加剂1贮槽、添加剂2贮槽的位置高于预分散槽，所述预分散槽中安装有超声波发生器及温度传感器；本实用新型通过对蚀刻液配制中主要化学药剂加入的准确计量、检测装置的改进，采用计算机瞬时采集泵输送液体的流量，并转化为数字信号，再经计算机积分计算，获得所加入药剂的总量，达到蚀刻液中主要化学药剂的准确加入，改善蚀刻后铜箔质量，提高工艺运行稳定可靠性及生产效率的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 hdi 铜箔 蚀刻 精确 配制 装置 | ||
【主权项】：
一种HDI板铜箔蚀刻液的精确配制装置，包括一个蚀刻液配制槽，添加剂1贮槽、添加剂2贮槽以及两个预分散槽，其特征在于，添加剂1贮槽、添加剂2贮槽的位置高于蚀刻液配制槽；添加剂1贮槽、添加剂2贮槽与预分散槽之间通过管道、阀门连接，添加剂1贮槽、添加剂2贮槽的位置高于配液槽，所述预分散槽中安装有超声波发生器及温度传感器。
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