[实用新型]化学机械抛光装置有效
| 申请号： | 201420630427.5 | 申请日： | 2014-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN204277741U | 公开（公告）日： | 2015-04-22 |
| 发明（设计）人： | 张海龙;靳爱军;王红艳 | 申请（专利权）人： | 安阳方圆研磨材料有限责任公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;H01L21/304 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 455000 河南*** | 国省代码： | 河南;41 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种化学机械抛光装置，包括压板和抛光层，所述压板具有承压面和接触面；所述抛光层具有抛光面，以及与所述压板接触面相粘结的非抛光面；所述抛光层包括从所述抛光层的抛光面延伸至所述压板承压面的中心通孔，与所述中心通孔同心并且通过十字通道连通的环形凹槽，从所述环形凹槽向所述抛光面边缘延伸的辐射凹槽；其中，在所述压板上具有与所述中心通孔连通的研磨浆料进口。本实用新型所述的化学机械抛光装置，可以用于光学玻璃或树脂镜片，半导体硅或二氧化硅基片，以及其它电子器件所采用的介质材料基片或金属基片的抛光处理，而且有利于减少抛光表面的划痕数量，且有利于抛光基片的转移。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 装置 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光装置，包括压板和抛光层，所述压板具有承压面和接触面；其特征在于：所述抛光层具有在抛光浆料存在的条件下对基片表面进行抛光的抛光面，以及与所述压板接触面相粘结的非抛光面；所述抛光层包括从所述抛光层的抛光面延伸至所述压板承压面的中心通孔，与所述中心通孔同心并且通过十字通道连通的环形凹槽，从所述环形凹槽向所述抛光面边缘延伸的辐射凹槽；其中，在所述压板上具有与所述中心通孔连通的研磨浆料进口。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安阳方圆研磨材料有限责任公司，未经安阳方圆研磨材料有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201420630427.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：应用于空压机转子的去毛刺旋转平台
- 下一篇：一种木材抛光设备
