[实用新型]一种立式硅单晶热处理炉有效
| 申请号： | 201420578066.4 | 申请日： | 2014-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN204111930U | 公开（公告）日： | 2015-01-21 |
| 发明（设计）人： | 王彦君;王刚;张雪囡;崔敏;邬丽丽;高树良 | 申请（专利权）人： | 天津市环欧半导体材料技术有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/02 | 分类号： | C30B33/02;C30B29/06 |
| 代理公司： | 天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211 | 代理人： | 杨慧玲 |
| 地址： | 300384 天津市滨海新区*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种立式硅单晶热处理炉，属于半导体单晶的热处理炉领域，包括变压器、控制系统和热处理单元，热处理单元为两个，对称设置在变压器和控制系统的两边，热处理单元包括载料机构和热处理机构，载料机构包括物料托盘和载料驱动装置，载料驱动装置可以驱动物料托盘上下移动；热处理机构包括炉体和石英管，石英管安装在炉体内部，石英管的下端设有一开口，炉体的中部区域为工作区，炉体下端的两侧安装有气源的进气口和排气口。本实用新型采用立式结构，结构简单、使用方便、自动化程度高、占用面积小、适合大直径硅单晶热处理，适于批量生产、工作效率高；并且能充分保证大直径区熔硅单晶辐照缺陷和损伤完全恢复，显示真实电参数。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 立式 硅单晶 热处理 | ||
【主权项】：
一种立式硅单晶热处理炉，包括变压器和设置在变压器正下方的控制系统，其特征在于：还包括热处理单元，所述热处理单元为两个，对称设置在变压器和控制系统的两边，所述热处理单元包括载料机构和位于载料机构正上方的热处理机构，所述载料机构包括物料托盘和载料驱动装置，所述载料驱动装置可以驱动物料托盘上下移动；所述热处理机构包括炉体和石英管，所述石英管安装在炉体内部，所述石英管的下端设有一开口，所述开口的尺寸可以使硅单晶进入和离开，所述炉体的中部区域为工作区，所述炉体下端的两侧安装有气源的进气口和排气口并与石英管内部连通。
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