[实用新型]一种纳米级药物颗粒的制备装置有效
申请号: | 201420491183.7 | 申请日: | 2014-08-28 |
公开(公告)号: | CN204033785U | 公开(公告)日: | 2014-12-24 |
发明(设计)人: | 曾舒乐 | 申请(专利权)人: | 曾舒乐 |
主分类号: | A61J3/00 | 分类号: | A61J3/00 |
代理公司: | 西安创知专利事务所 61213 | 代理人: | 谭文琰 |
地址: | 美国加利福尼亚州*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本实用新型公开了一种纳米级药物颗粒的制备装置,包括固态药物制备装置或组装式药物制备装置;组装式药物制备装置包括上表面上设置有多个纳米级凹痕的基板、用于在基板上制备气相沉积层的第一气相沉积室、对待去除区域上的气相沉积层进行去除并获得多个纳米药粒的沉积层去除设备、将纳米药粒从基板取出的纳米药粒移出设备和在纳米药粒外侧包覆外包覆层的外侧封装设备;固态药物制备装置和外侧封装设备均为固态药粒封装设备;固态药粒封装设备为第二气相沉积室或喷雾室,第二气相沉积室和喷雾式内均安装有气动搅拌机。本实用新型结构简单、设计合理且使用操作简便、使用效果好,能简便、快速完成外覆缓释膜的纳米级药物颗粒的制备过程。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 药物 颗粒 制备 装置 | ||
【主权项】:
一种纳米级药物颗粒的制备装置,其特征在于:包括固态药物制备装置或组装式药物制备装置;所述组装式药物制备装置包括上表面上设置有多个纳米级凹痕(4)的基板(5)、用于在基板(5)上制备气相沉积层的第一气相沉积室(1)、对基板(5)的待去除区域上的所述气相沉积层进行去除并获得多个纳米药粒的沉积层去除设备、将第一气相沉积室(1)内的基板(5)移送至所述沉积层去除设备内的第二基板移送机构、将所述纳米药粒从基板(5)取出的纳米药粒移出设备(7)、将所述沉积层去除设备内的基板(5)移送至纳米药粒移出设备(7)的第三基板移动机构、在所述纳米药粒外侧包覆外包覆层(3‑4)的外侧封装设备和将纳米药粒移出设备(7)内的所述纳米药粒移送至所述外侧封装设备的药粒移送通道;所述第一气相沉积室(1)外侧设置有将基板(5)移送至第一气相沉积室(1)内的第一基板移送机构,所述第一气相沉积室(1)和所述沉积层去除设备内均设置有供基板(5)放置的基板放置架(6);所述第二基板移送机构连接于第一气相沉积室(1)与所述沉积层去除设备之间,所述第三基板移动机构连接于所述沉积层去除设备与纳米药粒移出设备(7)之间,所述药粒移送通道连接于纳米药粒移出设备(7)与所述外侧封装设备之间;所述第一气相沉积室(1)上安装有将对需封装药物进行封装的封装材料以气态形式送入第一气相沉积室(1)内的封装材料进气管,所述封装材料进气管与第一气相沉积室(1)内部相通;所述基板(5)上的气相沉积层包括平铺在基板(5)上表面上的下沉积层(2‑1)和平铺在下沉积层(2‑1)上方的上沉积层(2‑3),所述下沉积层(2‑1)和上沉积层(2‑3)均为由所述封装材料气相沉积形成的沉积层;所述第一气相沉积室(1)上设置有将需封装药物送入第一气相沉积室(1)内的送药装置,所述需封装药物位于下沉积层(2‑1)和上沉积层(2‑3)之间;所述纳米药粒包括芯药(3‑2)、包覆在芯药(3‑2)下部外侧的下包覆层(3‑1)和包覆在芯药(3‑2)上部外侧的上包覆层(3‑3);所述待去除区域为基板(5)上除多个所述纳米级凹痕(4)之外的区域;所述下沉积层(2‑1)由位于待去除区域上方的下去除层和多个分别位于多个所述纳米级凹痕(4)上方的下包覆层(3‑1)组成,所述上沉积层(2‑3)由位于待去除区域上方的上去除层和多个分别位于多个所述纳米级凹痕(4)上方的上包覆层(3‑3)组成,位于纳米级凹痕(4)上方且包覆在下包覆层(3‑1)与上包覆层(3‑3)之间的所述需封装药物为芯药(3‑2);所述固态药物制备装置和所述外侧封装设备均为固态药粒封装设备(17);所述固态药粒封装设备(17)为用于在固态药粒外侧包覆一层外包覆层(3‑4)的第二气相沉积室或喷雾室,所述第二气相沉积室和所述喷雾室内均安装有对所述固态药粒进行连续搅拌并使得各固态药粒均处于悬浮状态的气动搅拌机(22);所述固态药粒为纳米级颗粒;所述纳米药粒为所述固态药粒;所述第二气相沉积室上安装有将对固态药粒进行包覆的包覆材料以气态形式送入第二气相沉积室内的包覆材料进气管(19),所述包覆材料进气管(19)与所述第二气相沉积室内部相通;所述喷雾室上安装有将所述包覆材料均匀喷至所述固态药粒外表面上的喷雾喷头。
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