[实用新型]纳米光能移相系统及制备纳米光能移相系统的设备有效
| 申请号： | 201420364307.5 | 申请日： | 2014-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN203911862U | 公开（公告）日： | 2014-10-29 |
| 发明（设计）人： | 李会欣;孙占标;闫树林 | 申请（专利权）人： | 李会欣;孙占标;闫树林 |
| 主分类号： | H02S40/22 | 分类号： | H02S40/22;G02B5/04 |
| 代理公司： | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人： | 张若华 |
| 地址： | 073000 河北省保定*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种纳米光能移相系统及制备纳米光能移相系统的设备，该移相系统包括基底，所述基底表面设有多个凸起，所述凸起可使光线从基底上折射、反射到其左下方和右下方位置的光学用能单元上。本实用新型纳米光能移相系统可以将照射在基底上的光线基本折射、反射到光学用能单元上，其凸起厚度为纳米级，成本降低，光能转换效率更高。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 光能 系统 制备 设备 | ||
【主权项】：
一种纳米光能移相系统，其特征在于：包括基底，所述基底表面设有多个凸起，所述凸起可使光线从基底上折射、反射到其左下方或/和右下方位置的光学用能单元上。
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