[实用新型]一种溅射镀膜的靶材结构有效
| 申请号： | 201420351399.3 | 申请日： | 2014-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN203976900U | 公开（公告）日： | 2014-12-03 |
| 发明（设计）人： | 闫都伦;王克斌;吴细标;王旻杰;唐贵民 | 申请（专利权）人： | 深圳新南亚技术开发有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 无 | 代理人： | 无 |
| 地址： | 518029 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种溅射镀膜的靶材结构，包括一平板靶材，靶材底面设有若干排柱状磁铁，相邻排的磁铁极性互异，两侧的磁铁顶部表面设有朝向中间的斜面，中间的磁铁顶部两侧分别设有朝向两侧的斜面。其有益效果在于，通过调整磁铁表面的倾斜度，将其做成极靴，有效增多了平行于靶面的磁力线数量，从而提高了靶材利用率，而且一次投资少，不需要更改其他硬件设备及调整生产工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 溅射 镀膜 结构 | ||
【主权项】：
一种溅射镀膜的靶材结构，其特征在于，包括一平板靶材，靶材底面设有若干排柱状磁铁，相邻排的磁铁极性互异，两侧的磁铁顶部表面设有朝向中间的斜面，中间的磁铁顶部两侧分别设有朝向两侧的斜面。
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