[实用新型]一种制备旋转高纯硅靶的烧结炉有效
| 申请号： | 201420334821.4 | 申请日： | 2014-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN203947155U | 公开（公告）日： | 2014-11-19 |
| 发明（设计）人： | 胡习光;秦国强;常金永;张志祥 | 申请（专利权）人： | 江阴恩特莱特镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C30B29/06;C30B28/06;C30B11/00 |
| 代理公司： | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人： | 殷红梅 |
| 地址： | 214437 江苏省无锡市江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种制备旋转高纯硅靶的烧结炉，属于机械设备技术领域。其包括炉盖，炉盖与中空的炉壳相连，炉壳内部设置石墨热屏障，炉壳与石墨热屏障之间设置耐高温岩棉；石墨热屏障内设置有环形的石墨发热体，石墨发热体内部设置耐高温垫块，耐高温垫块位于托盘上；托盘与丝杆相连接，丝杆套接于自动升降装置上；炉壳下端还设置炉腿。本实用新型提供的烧结炉结构简单合理，各部件紧凑，适用于烧结旋转高纯硅靶，得到的产品密度高（大于99.9%）、纯度高（99.995%）、溅射速率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 旋转 高纯 烧结炉 | ||
【主权项】：
一种制备旋转高纯硅靶的烧结炉，其特征是：包括炉盖（1），炉盖（1）与中空的炉壳（2）相连，炉壳（2）内部设置石墨热屏障（17），炉壳（2）与石墨热屏障（17）之间设置耐高温岩棉（16）；中空的炉壳（2）内部设置有冷却水，炉壳（2）一侧设置有第一进水管（14），另一侧设置第一出水管（3）；石墨热屏障（17）内设置有环形的石墨发热体（6），石墨发热体（6）内部设置耐高温垫块（7），耐高温垫块（7）位于托盘（8）上；托盘（8）与自动升降装置（10）相连；炉壳（2）中部一侧设置有进气管（18）、第二进水管（13）和抽真空出气管（12），另一侧设置炉门（15），炉壳（2）上还设置有第二出水管（9）；炉壳（2）下端还设置炉腿（4）。
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