[实用新型]镀膜机台、反应腔、锭子有效
| 申请号： | 201420141773.7 | 申请日： | 2014-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN203855636U | 公开（公告）日： | 2014-10-01 |
| 发明（设计）人： | 丁小弟;张欣;金懿 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吴世华;林彦之 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种镀膜机台、反应腔、锭子。镀膜机台，其包括反应腔以及锭子，所述锭子安装在所述反应腔的底部，所述锭子的密封面上设置有密封圈，以在将所述锭子安装到反应腔的底部后，与所述反应腔底部的密封面无缝对接，防止反应腔泄露。在更换所述锭子时，该密封圈由于直接配置在锭子的密封面上，因此，不会出现突出变形；在更换的过程中，往上抬spindle时，因密封圈不会被锭子spindle挡住，可以实时观察到密封圈的实际状态，可避免密封圈压坏，进一步避免了更换完成后使反应腔有泄露。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 机台 反应 锭子 | ||
【主权项】：
一种镀膜机台，其特征在于，包括反应腔以及锭子，所述锭子安装在所述反应腔的底部，所述锭子的密封面上设置有密封圈，以在将所述锭子安装到反应腔的底部后，与所述反应腔底部的密封面无缝对接。
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