[实用新型]厚片硅料的清洗装置有效

专利信息
申请号: 201420055638.0 申请日: 2014-01-28
公开(公告)号: CN203803852U 公开(公告)日: 2014-09-03
发明(设计)人: 苏阳 申请(专利权)人: 包头市山晟新能源有限责任公司
主分类号: B08B3/12 分类号: B08B3/12;B08B3/08
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 赵根喜;李昕巍
地址: 014105 内蒙古自*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要: 实用新型公开了一种厚片硅料的清洗装置,其包括依次设置的碱洗发生器、阶梯溢流槽和超声清洗槽:所述碱洗发生器包括盛液槽、搅拌器、进水口和排液口,所述盛液槽用于盛装对所述厚片硅料进行碱洗的浓度为30-40%的氢氧化钠溶液或用于对所述厚片硅料碱洗后进行冲洗的纯水;所述搅拌器设置于所述盛液槽的上方,能够伸入所述氢氧化钠溶液中对所述氢氧化钠溶液进行搅拌,所述纯水的所述进水口设置在所述盛液槽的顶部,用于排出所述氢氧化钠溶液的所述排液口设置在所述盛液槽的底部;所述阶梯溢流槽包括一个或多个多级溢流槽;所述超声清洗槽内设置有装载所述厚片硅料的超声花篮。本实用新型可以提高厚片硅料的清洗质量,降低清洗成本。
搜索关键词: 厚片 清洗 装置
【主权项】:
一种厚片硅料的清洗装置,其特征在于,所述厚片硅料的清洗装置包括依次设置的碱洗发生器、第一阶梯溢流槽和第一超声清洗槽: 所述碱洗发生器包括盛液槽、搅拌器、进水口和排液口,所述盛液槽用于盛装对所述厚片硅料进行碱洗的浓度为30‑40%的氢氧化钠溶液或用于对所述厚片硅料碱洗后进行冲洗的纯水;所述搅拌器设置于所述盛液槽的上方,能够伸入所述氢氧化钠溶液中对所述氢氧化钠溶液进行搅拌,所述纯水的所述进水口设置在所述盛液槽的顶部,用于排出所述氢氧化钠溶液的所述排液口设置在所述盛液槽的底部; 所述第一阶梯溢流槽包括一个或多个多级溢流槽; 所述第一超声清洗槽内设置有装载所述厚片硅料的超声花篮。 
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