[实用新型]厚片硅料的清洗装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及光伏技术领域，尤其与一种厚片硅料的清洗装置有关。 

背景技术

在光伏行业，单晶拉晶、多晶铸锭所产生的厚片硅料的回收料，可以在进行清洗达到拉晶、铸锭要求后，进行再利用。 

但厚片硅料清洗工艺一直是困惑硅料清洗技术人员的一道难题，主要原因是厚片硅料正常清洗工艺存在以下问题： 

1.现有技术中，厚片硅料通常用混酸进行清洗，厚片硅料在往酸洗花篮里摆放时，不重叠的可能性几乎没有，只要重叠，重叠面无法得到腐蚀液的腐蚀，起不到清洗效果，如流入下一工序，会对单晶拉晶、多晶铸锭质量造成影响； 

2.厚片硅料因为表面积较大，腐蚀速度过快，极易导致硅料氧化，造成硅料清洗不合格。 

3.厚片硅料因表面积较大，耗酸量较正常硅料大1倍左右，清洗成本较高。 

因此，需要开发一种厚片硅料的清洗装置，以解决上述问题。 

实用新型内容

针对现有技术中存在的问题，本实用新型的目的为提供一种厚片硅料的清洗装置，以解决现有技术中存在的清洗质量差和成本高的技术问题。 

为实现上述目的，本实用新型的技术方案如下： 

一种厚片硅料的清洗装置，所述厚片硅料的清洗装置包括依次设置的碱洗发生器、第一阶梯溢流槽和第一超声清洗槽：所述碱洗发生器包括盛液槽、 搅拌器、进水口和排液口，所述盛液槽用于盛装对所述厚片硅料进行碱洗的浓度为30-40％的氢氧化钠溶液或用于对所述厚片硅料碱洗后进行冲洗的纯水；所述搅拌器设置于所述盛液槽的上方，能够伸入所述氢氧化钠溶液中对所述氢氧化钠溶液进行搅拌，所述纯水的所述进水口设置在所述盛液槽的顶部，用于排出所述氢氧化钠溶液的所述排液口设置在所述盛液槽的底部；所述第一阶梯溢流槽包括一个或多个多级溢流槽；所述第一超声清洗槽内设置有装载所述厚片硅料的超声花篮。 

本实用新型的厚片硅料的清洗装置，优选的，所述碱洗发生器和所述第一阶梯溢流槽之间、所述第一阶梯溢流槽和所述第一超声清洗槽之间均设置有传片装置。 

本实用新型的厚片硅料的清洗装置，优选的，所述搅拌器为一个或多个。 

本实用新型的厚片硅料的清洗装置，优选的，所述第一阶梯溢流槽包括两个依次设置的三级溢流槽。 

本实用新型的厚片硅料的清洗装置，优选的，所述清洗装置还包括在所述第一超声清洗槽之后依次设置的酸洗槽、第二阶梯溢流槽、第二超声清洗槽甩干机和烘箱。 

本实用新型的厚片硅料的清洗装置，优选的，所述烘箱之后还设置有分类放置区。 

本实用新型的有益效果在于，本实用新型的厚片硅料的清洗装置，先将厚片硅料置于碱洗发生器中使用氢氧化钠溶液进行碱洗，碱洗过程中充分搅拌，去除厚片硅料表面的有机沾污，再置于废混酸溶液中进行浸泡，去除碱残留及金属沾污，使厚片硅料达到拉晶，及铸锭要求。提高了清洗质量，降低了生产成本。 

附图说明

图1为本实用新型实施例的厚片硅料的清洗装置的示意图。 

图2为本实用新型实施例的厚片硅料的清洗装置中碱洗发生器的示意图。 

具体实施方式

体现本实用新型特征与优点的典型实施例将在以下的说明中详细叙述。应理解的是，本实用新型能够在不同的实施例上具有各种的变化，其皆不脱离本实用新型的范围，且其中的说明及附图在本质上是当作说明之用，而非用以限制本实用新型。 

如图1和图2所示，本实用新型实施例的厚片硅料的清洗装置，包括依次设置的碱洗发生器1、阶梯溢流槽2、超声清洗槽3、酸洗槽4、阶梯溢流槽2’、超声清洗槽3’、甩干机5、烘箱6和分类放置区7：相邻两部件之间，例如碱洗发生器1和阶梯溢流槽2、阶梯溢流槽2和超声清洗槽3之间，可设置有传片装置，传片装置例如为传送带。但本发明并不以此为限，也可在两者之间通过人工进行传片。 

其中，如图2所示，碱洗发生器1包括盛液槽10、搅拌器13、进水口12和排液口11，盛液槽10用于盛装碱溶液，碱溶液优选的为30-40％的氢氧化钠溶液；另外，盛液槽10内还需进行纯水冲洗的工序，因此盛液槽10还用于盛装对厚片硅料碱洗后进行冲洗的纯水。 

搅拌器13设置于盛液槽10的上方，通过电机驱动，并且其叶片能够伸入到碱溶液内进行搅拌，搅拌器13可以是只有一个，也可以是多个。而用于向盛液槽10中加注纯水的进水口12设置在盛液槽10的顶部，用于碱洗后排出碱液的排液口11设置在盛液槽10的底部；排液口11也可以用来排出纯水。