[实用新型]高分子真空沉积的设备有效
| 申请号： | 201420006531.7 | 申请日： | 2014-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN203782222U | 公开（公告）日： | 2014-08-20 |
| 发明（设计）人： | 林明达 | 申请（专利权）人： | 德一精密国际股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/12 | 分类号： | C23C14/12 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台湾新北*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型是关于一种高分子真空沉积的设备，其在聚对二甲基苯的沉积设备中，于沉积腔体内设置开口面向腔壁的导流管，使得对二甲基苯的反应粒子所形成的流场在沉积腔体内的流动能够达到均速且均匀，进而使得镀膜的效果得到提升；同时，本实用新型也变更了冷凝系统的设计，降低冷凝系统因结露结冰膨胀而造成损坏的可能性。 | ||
| 搜索关键词： | 高分子 真空 沉积 设备 | ||
【主权项】：
一种高分子真空沉积的设备，其特征在于，其具有真空的一沉积腔体，该沉积腔体包含：一容室，设置有一基材；以及一第一导流管，设置于该容室之内，其具有多个导流出口，该些导流出口面对该沉积腔体的一腔壁。
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