[发明专利]微光刻投射曝光设备的照明系统在审
| 申请号： | 201410858448.7 | 申请日： | 2014-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN104656379A | 公开（公告）日： | 2015-05-27 |
| 发明（设计）人： | M·德冈瑟;V·戴维登科;T·科布;F·施莱塞纳;S·希尔特;W·霍吉利 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，包括具有多个光入射分面(75)的光学积分器(60)，每个光入射分面与次级光源(106)关联。空间光调制器(52)具有光出射面(57)，以空间分辨方式透射或反射照射的投射光。光瞳形成单元(36)将投射光引导到空间光调制器。物镜(58)，将空间光调制器的光出射面成像到光学积分器(60)的光入射分面(75)上。空间光调制器的光出射面包括目标区域(110)的组(54-1至54-8)，所述组通过未成像到光入射分面(75)上的区域(130)分隔开。物镜(58)组合目标区域(110)的像(110′)，从而使目标区域的像(110′)在光学积分器(60)上邻接。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 投射 曝光 设备 照明 系统 | ||
【主权项】：
一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，包括：a)光瞳平面(76)，b)光学积分器(60)，配置成在所述光瞳平面(76)中产生多个次级光源(106)，其中，所述光学积分器(60)包括多个光入射分面(75)，每个光入射分面与所述次级光源(106)之一关联，c)空间光调制器(52)，具有光出射面(57)，并且配置成以空间分辨的方式透射或反射照射的投射光，d)光瞳形成单元(36)，配置成将投射光引导到所述空间光调制器上，e)物镜(58)，将空间光调制器(52)的光出射面(57)成像到所述光学积分器(60)的光入射分面(75)上，f)控制单元(90)，配置成控制所述光瞳形成单元(36)和所述空间光调制器(52)，其中，所述空间光调制器(52)的光出射面(57)包括目标区域(110)的组(54‑1至54‑8)，所述组通过不成像到所述光入射分面(75)上的区域(130)分隔开，以及其中，所述物镜(58)配置成组合所述目标区域(110)的像(110′)，从而使所述目标区域(110)的像(110′)在所述光学积分器(60)上邻接。
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