[发明专利]一种VGF砷化镓单晶生长新工艺在审
申请号: | 201410839945.2 | 申请日: | 2014-12-29 |
公开(公告)号: | CN105803515A | 公开(公告)日: | 2016-07-27 |
发明(设计)人: | 武壮文;于洪国;赵静敏;周晓霞 | 申请(专利权)人: | 有研光电新材料有限责任公司 |
主分类号: | C30B11/00 | 分类号: | C30B11/00;C30B29/42 |
代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 倪中翔 |
地址: | 065001 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 一种VGF砷化镓单晶生长新工艺,包括以下步骤:将砷化镓多晶、籽晶装入PBN坩埚中,放入石英管内抽真空后密封;用1.5小时加热升温到第一区1220℃、第二区1230℃、第三区1233℃、第四区1235℃、第五区1225℃、第六区1222℃,然后保温1小时;加热升温到第三区1253℃,然后保温2小时;加热升温到第三区1262℃、第四区1244℃、第五区1225℃,然后保温1.5小时;然后放肩并等径生长收尾。本发明VGF砷化镓单晶生长新工艺可以大大缩短升温化料和接籽晶的时间,从而提高整个工艺的生产效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 vgf 砷化镓单晶 生长 新工艺 | ||
【主权项】:
一种VGF砷化镓单晶生长新工艺,利用一单晶炉,该单晶炉中的加热区域从下到上依次为第一区、第二区、第三区、第四区、第五区和第六区;其特征在于,包括以下步骤:(1)装炉和热偶:将砷化镓多晶、籽晶装入PBN坩埚中,放入石英管内抽真空后密封,使该坩埚内的砷化镓多晶对应该第三区;在该第一区、第二区、第三区、第四区、第五区和第六区分别设测温热偶,另外在该籽晶的头部和尾部、放肩部分末端和晶体生长尾部也分别设测温热偶;(2)升温:用1.5小时加热升温到第一区1220℃、第二区1230℃、第三区1233℃、第四区1235℃、第五区1225℃、第六区1222℃,然后保温1小时;(3)化料:加热升温到第一区1220℃、第二区1230℃、第三区1253℃、第四区1235℃、第五区1225℃、第六区1222℃,然后保温2小时;(4)接籽晶:加热升温到第一区1220℃、第二区1230℃、第三区1262℃、第四区1244℃、第五区1225℃、第六区1222℃,然后保温1.5小时;(5)放肩:降温到第一区1220℃、第二区1230℃、第三区1255℃、第四区1235℃、第五区1225℃、第六区1222℃,然后保温3.5小时;降温到第一区1220℃、第二区1230℃、第三区1250℃、第四区1235℃、第五区1225℃、第六区1222℃,然后保温15小时;降温到第一区1220℃、第二区1230℃、第三区1233℃、第四区1235℃、第五区1225℃、第六区1222℃,然后用保温30小时;控制温度到第一区1215℃、第二区1225℃、第三区1228℃、第四区1235℃、第五区1227℃、第六区1224℃,然后保温35小时;(6)等径生长收尾。
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