[发明专利]具有高延展性、高加工性的高磁通密度软磁铁基非晶合金在审
| 申请号： | 201410834174.8 | 申请日： | 2014-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN104745972A | 公开（公告）日： | 2015-07-01 |
| 发明（设计）人： | 井上明久;孔凡利;常春涛;真壁英一 | 申请（专利权）人： | 井上明久;株式会社真壁技研;株式会社BMG |
| 主分类号： | C22C45/02 | 分类号： | C22C45/02 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 | 代理人： | 金光军,金玉兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明的课题为，提供一种在高浓度铁基合金组成范围内具有相当高的玻璃形成能力，具有1.60T以上的高饱和磁通密度、低矫顽力、高有效磁导率、以及良好的非晶形成能力和优越的机械强度和延展性、加工性的高磁通密度软磁铁基非晶合金。通过以下特征以解决上述课题，含有作为合金元素的铁、硼、硅以及磷，合金组成表示为FeaBbSicPd，当a、b、c、d为原子百分比时，a、b、c以及d满足下式81≦a≦87、7≦b≦10、0﹤d≦c﹤c+d﹤b、a+b+c+d≦100，饱和磁通密度在1.60T以上。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 延展性 加工 高磁通 密度 磁铁 基非晶 合金 | ||
【主权项】：
一种具有高延展性、高加工性的高磁通密度软磁铁基非晶合金，其特征在于，含有作为合金元素的铁、硼、硅以及磷，合金组成表示为FeaBbSicPd，当a、b、c、d为原子百分比时，a、b、c以及d满足下式：81≦a≦87、7≦b≦10、0﹤d≦c﹤c+d﹤b、a+b+c+d≦100，饱和磁通密度在1.60T以上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于井上明久;株式会社真壁技研;株式会社BMG，未经井上明久;株式会社真壁技研;株式会社BMG许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410834174.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
