[发明专利]一种连续式真空离子镀膜机在审
| 申请号： | 201410823619.2 | 申请日： | 2014-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN104404474A | 公开（公告）日： | 2015-03-11 |
| 发明（设计）人： | 关秉羽 | 申请（专利权）人： | 辽宁北宇真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/35 |
| 代理公司： | 铁岭天工专利商标事务所 21105 | 代理人： | 靳万清 |
| 地址： | 112600 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种连续式真空离子镀膜机，具有箱式真空镀膜室，箱式真空镀膜室内的左、右两侧分别设有基膜放卷机构和基膜收卷纠偏机构，箱式真空镀膜室内由左至右间隔设有多排平面磁控溅射靶，其中左、右两排为单面溅射平面磁控溅射靶、左右两排之间的为双面溅射平面磁控溅射靶，相邻排平面磁控溅射靶之间形成有镀膜通道，所述多排平面磁控溅射靶的前、后两侧分别设有水冷托板，水冷托板的外侧设有传动辊，传动辊位于相邻两排平面磁控溅射靶之间的位置；所述基膜放卷机构装设的基膜绕经传动辊后从镀膜通道通过并由基膜收卷纠偏机构进行纠偏后收卷。本发明实现了基膜的放卷、镀膜及收卷均在同一个箱式真空镀膜室内完成，设备结构简单、体积小，大幅度降低了制作成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 连续 真空 离子 镀膜 | ||
【主权项】：
一种连续式真空离子镀膜机，其特征在于：具有箱式真空镀膜室（1），箱式真空镀膜室内的左、右两侧分别设有基膜放卷机构（2）和基膜收卷纠偏机构（3），箱式真空镀膜室内由左至右间隔设有多排平面磁控溅射靶（4），其中左、右两排为单面溅射平面磁控溅射靶（41）、左右两排之间的为双面溅射平面磁控溅射靶（42），相邻排平面磁控溅射靶（4）之间形成有镀膜通道（5），所述多排平面磁控溅射靶（4）的前、后两侧分别设有水冷托板（6），水冷托板（6）的外侧设有传动辊（7），传动辊（7）位于相邻两排平面磁控溅射靶之间的位置；所述基膜放卷机构（2）装设的基膜绕经所述传动辊（7）后从所述的镀膜通道（5）通过并由所述基膜收卷纠偏机构（3）进行纠偏后收卷。
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