[发明专利]窄发散角脊波导半导体激光器有效

专利信息
申请号: 201410770523.4 申请日: 2014-12-15
公开(公告)号: CN104466675B 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: 车相辉;赵润;曹晨涛;陈宏泰;宁吉丰;张宇;位永平;郝文嘉;王彦照;林琳;杨红伟 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十三研究所
主分类号: H01S5/22 分类号: H01S5/22
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所13120 代理人: 米文智
地址: 050051 *** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明公开了一种窄发散角脊波导半导体激光器,包括衬底层、缓冲层、N型限制层、下限制层、下波导层、多量子阱区、上波导层、上限制层、腐蚀阻挡层、P型限制层和电极接触层;在缓冲层和N型限制层之间还设有扩展波导层,扩展波导层为N型InGaAsP材料,扩展波导层的厚度为0.2μm‑0.5μm,下波导层的厚度为0.05μm‑0.15μm,上波导层的厚度为0.05μm‑0.15μm,扩展波导层到多量子阱区的距离为1μm‑2μm;P型限制层和电极接触层设置在腐蚀阻挡层的纵向中部,构成脊波导;采用小球透镜封装。本发明减小了垂直发散角,提高耦合效率,温度特性能满足要求,工艺过程简化,提高芯片成品率,成本低廉。
搜索关键词: 发散 波导 半导体激光器
【主权项】:
一种窄发散角脊波导半导体激光器,包括衬底层(1)、在衬底层(1)上由下至上依次设有的缓冲层(2)、N型限制层(4)、下限制层(5)、下波导层(6)、多量子阱区(7)、上波导层(8)、上限制层(9)、腐蚀阻挡层(10)、P型限制层(11)和电极接触层(12);其特征在于在缓冲层(2)和N型限制层(4)之间还设有扩展波导层(3),所述扩展波导层(3)为N型InGaAsP材料,扩展波导层(3)的厚度为0.2μm‑0.5μm,所述下波导层(6)的厚度为0.05μm‑0.15μm,上波导层(8)的厚度为0.05μm‑0.15μm,扩展波导层(3)到多量子阱区(7)的距离为1μm‑2μm;所述P型限制层(11)和电极接触层(12)设置在腐蚀阻挡层(10)的纵向中部,构成脊波导;采用直径为1.5mm‑2.0mm的小球透镜封装。
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