[发明专利]低介电常数的多层聚酰亚胺膜、其层合体及其制备方法

摘要

本发明涉及低介电常数的多层聚酰亚胺膜、其层合体及其制备方法。所述多层聚酰亚胺膜包括：第一聚酰亚胺层，其中混掺有含氟高分子粒子，该第一聚酰亚胺层具有相对的第一、第二表面；以及第二、第三聚酰亚胺层，为分别形成于该第一聚酰亚胺层的该第一、第二表面上，该第二、第三聚酰亚胺层中分别含有有机硅氧化合物粒子；其中该多层聚酰亚胺膜的整体热膨胀系数(CTE)介于约13与30ppm/℃之间。

主权项

1.一种多层聚酰亚胺膜，包括：第一聚酰亚胺层，其中混掺有含氟高分子粒子，所述第一聚酰亚胺层具有相对的第一、第二表面；其中所述第一聚酰亚胺层由二胺单体及二酸酐单体经缩合反应而成，以通式(A)a‑(B)b‑(C)c‑(D)d表示，A及B为二胺单体，C及D为二酸酐单体，a、b、c、d为摩尔数，a+b+c+d＝1，a+b＝0.5且c+d＝0.5，二胺单体A：对苯二胺(PDA)、4,4’‑二胺基‑2,2’‑二甲基‑1,1’‑联苯(m‑TB‑HG)、6‑胺基‑2‑(4‑胺基苯基)‑苯并唑(6PBOA))、5‑胺基‑2‑(4‑胺基苯基)‑苯并唑(5PBOA)及2,2’‑双(三氟甲基)联苯胺(TFMB)；二胺单体B：二胺基二苯醚(ODA)、1,3‑双(4'‑胺基苯氧基)苯(TPER)、1,4‑双(4‑胺基苯氧基)苯(TPEQ)、1,3‑双(3‑胺基苯氧基)苯(APBN)、3,5‑二胺基三氟甲苯(DABTF)及2,2'‑双[4‑(4‑胺基苯氧基苯基)]丙烷(BAPP)；二酸酐单体C：均苯四甲酸二酸酐(PMDA)及3,3',4,4'‑联苯四羧酸二酸酐(BPDA)；二酸酐单体D：2,2‑双[4‑(3,4‑二羧基苯氧基)苯基]丙烷二酸酐(BPADA)、4,4'‑(六氟异丙烯)二酞酸酐(6FDA)、二苯醚四甲酸二酸酐(ODPA)、3,3',4,4'‑二环己基四甲酸二酐(HBPDA)及苯酮四羧酸二酸酐(BTDA)；其中，所述含氟高分子粒子占所述第一聚酰亚胺层10wt％至45wt％，其中，(1)当该含氟高分子粒子的添加量介于10‑20wt％时，所述二胺单体选自A，而所述二酸酐单体是同时选自C与D，可于各组中选择一种或多种，且，限制条件为，b＝0，0.05≦d≦0.15，且c不可为0；(2)当该含氟高分子粒子的添加量介于20‑30wt％时：1)所述二胺单体选自B，而所述二酸酐单体是同时选自C与D，可于各组中选择一种或多种，且，限制条件为，a＝0，0.1≦b+d≦0.3；或2)所述二胺单体是同时选自A及B，而所述二酸酐单体是同时选自C与D，可于各组中选择一种或多种，且，限制条件为，0.1≦b+d≦0.3；或3)所述二胺单体选自A，而所述二酸酐单体是同时选自C与D，可于各组中选择一种或多种，且，限制条件为，b＝0，0.05≦d≦0.15，且c不可为0；或(3)当该含氟高分子粒子的添加量介于30‑45wt％时：1)所述二胺单体选自A，而所述二酸酐单体是同时选自C与D，可于各组中选择一种或多种，且，限制条件为，b＝0，0≦d≦0.075；2)所述二胺单体选自B，而所述二酸酐单体是同时选自C与D组，可于各组中选择一种或多种，且，限制条件为，a＝0，b+d＜0.15；或3)所述二胺单体系同时选自A与B组，而所述二酸酐单体是同时选自C与D组，可于各组中选择一种或多种时，且，限制条件为，b+d＜0.15；以及第二、第三聚酰亚胺层，为分别形成于所述第一聚酰亚胺层的所述第一、第二表面上，所述第二、第三聚酰亚胺层中分别含有有机硅氧化合物粒子；其中所述多层聚酰亚胺膜的整体热膨胀系数CTE介于13ppm/℃与30ppm/℃之间。