[发明专利]氧化钇稳定氧化铪真空镀膜材料的制法在审
申请号: | 201410725109.1 | 申请日: | 2014-12-03 |
公开(公告)号: | CN104446458A | 公开(公告)日: | 2015-03-25 |
发明(设计)人: | 吴师岗 | 申请(专利权)人: | 山东理工大学 |
主分类号: | C04B35/48 | 分类号: | C04B35/48;C04B35/622 |
代理公司: | 济南舜源专利事务所有限公司 37205 | 代理人: | 徐健 |
地址: | 255076 山东省淄博市*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 一种氧化钇稳定氧化铪的真空镀膜材料的制法,其特征是,包括以下步骤:1)以氧化铪和氧化钇粉料为原料,按摩尔比氧化铪:氧化钇=73~98:2~27,均匀混合,然后添加聚乙烯醇结合剂使粉料团聚,造粒;2)对颗粒料进行预烧,预烧温度为1260℃;3)在真空烧结炉中烧结,真空度为1×10-2~1×10-4帕,升温速率为3~8℃/分钟,到达1700~2280℃时保温,保温时间为150分钟以上,然后自然冷却降温至室温。本发明能够解决传统氧化铪镀膜材料镀膜过程中的不稳定和折射率不均匀性问题,同时提高氧化铪薄膜的损伤阈值。 | ||
搜索关键词: | 氧化钇 稳定 氧化 真空镀膜 材料 制法 | ||
【主权项】:
一种氧化钇稳定氧化铪的真空镀膜材料的制法,其特征是,包括以下步骤:①以氧化铪和氧化钇粉料为原料,按摩尔比氧化铪:氧化钇=73~98:2~27,均匀混合,然后添加聚乙烯醇结合剂使粉料团聚,造粒;②对颗粒料进行预烧,预烧温度为1260℃;③然后在真空烧结炉中烧结,真空度为1×10-2~1×10-4帕,升温速率为3~8℃/分钟,到达1700~2280℃时保温,保温时间为150分钟以上,然后自然冷却降温至室温。
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