[发明专利]一种半透膜膜元件清洗装置在审
| 申请号： | 201410663490.3 | 申请日： | 2014-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN105597548A | 公开（公告）日： | 2016-05-25 |
| 发明（设计）人： | 王丽华;杨瑜芳 | 申请（专利权）人： | 东丽先端材料研究开发（中国）有限公司 |
| 主分类号： | B01D65/02 | 分类号： | B01D65/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200241 上海市闵行*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种半透膜膜元件的清洗装置，包含清洗水箱T1、膜元件静置箱T2、清洗液加药系统和清洗液回流系统，所述膜元件静置箱T2中含有清洗液。对于严重污染的RO膜元件或NF膜元件EL，使用该装置，在逆向清洗时，控制逆清洗条件，降低膜元件在清洗过程中的损坏率；而且清洗液从膜元件产水管进入，逆向清洗可以将严重污染结垢物质疏松化获得更好的清洗效果；清洗装置中膜元件直接连接清洗管路，无膜壳，结构简单、便于拆装。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半透膜膜 元件 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种半透膜膜元件清洗装置，包含清洗水箱T1、膜元件静置箱T2、清洗液加药系统和清洗液回流系统，其特征在于：所述膜元件静置箱T2中含有清洗液。
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