[发明专利]一种半透膜膜元件清洗装置在审
申请号: | 201410663490.3 | 申请日: | 2014-11-19 |
公开(公告)号: | CN105597548A | 公开(公告)日: | 2016-05-25 |
发明(设计)人: | 王丽华;杨瑜芳 | 申请(专利权)人: | 东丽先端材料研究开发(中国)有限公司 |
主分类号: | B01D65/02 | 分类号: | B01D65/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 200241 上海市闵行*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半透膜膜 元件 清洗 装置 | ||
技术领域
本发明涉及膜法水处理技术领域,具体涉及一种半透膜膜元件的清洗装 置。
背景技术
反渗透膜法和纳滤膜法水处理技术在电力、水力、药业、食品等水处理 领域被越来越广泛地采用,但由于进水水质复杂和预处理不充分,反渗透(RO) 膜膜元件或纳滤(NF)膜膜元件可能被进水中的无机物、有机物、微生物、 颗粒状物和胶体等杂质污染。这些物质沉积在膜表面,将会引起RO膜和NF 膜的性能下降,如低的产水流量、高的溶质透过率、原水和浓水之间的压差 增大。为恢复RO膜或NF膜的性能,需定期进行膜的清洗。随着运行时间不 断增加,RO膜或NF膜可能在使用过程中发生严重污染和堵塞,膜元件很难 通过常规在线化学清洗获得性能恢复。
为了恢复RO膜或NF膜的性能,可以采用膜元件的离线清洗,如专利文 献1中提出,清洗液通过清洗泵进、出水阀,保安进水阀,保安出水阀,RO 进水阀进入压力容器,在浓水阀,产水阀,浓水回流阀、产水回流阀开启状 态下,控制清洗流量和压力,对RO膜元件进行循环清洗。如果RO膜元件 严重污染或污堵时,污染物在膜片表面黏附性强,采用该方法很难获得较好 的清洗效果。
当RO膜或NF膜严重污染时,为了使膜表面的污染物从膜表面能够更有 效地分离,可以采用膜元件的逆向清洗,如专利文献2中提出,清洗液经过 清洗水泵,经由产水阀门从产水端进入反渗透膜系统,用于对膜系统进行逆 方向加压冲洗,使得黏附牢固的污染物从膜表面剥离。该清洗方法从产水端 进水,采用清洗水泵单独进水,进水压力难于控制,因此现有逆向清洗方法 对RO膜元件的清洗损坏率高;当采用膜表面逆方向加压冲洗后,从膜表面 剥离的污染物不能及时从膜表面脱落离开,再次正向加压运行时,被剥离的 污染物会重新压紧至膜表面,清洗效果欠佳。
专利文献1:CN201310250776.4
专利文献2:CN201310030825.3。
发明内容
本发明的目的在于提供一种半透膜膜元件清洗装置。使用该装置,对于 严重污染的半透膜膜元件进行逆向清洗,通过控制逆向清洗条件,降低膜元 件在清洗过程中的损坏率,同时提高清洗效果。
为了解决上述问题,本发明将下面的任一构成作为特征。
(1)一种半透膜膜元件清洗装置,包含清洗水箱T1、膜元件静置箱T2、 清洗液加药系统和清洗液回流系统,所述膜元件静置箱T2中含有清洗液。
(2)根据上述(1)所述的半透膜膜元件清洗装置,清洗水箱T1通过清 洗液加药系统与膜元件的产水管相连接。
(3)根据上述(1)所述的半透膜膜元件清洗装置,膜元件静置箱T2 内清洗液高度是膜元件静置箱T2高度的30%-90%。
(4)根据上述(3)所述的半透膜膜元件清洗装置,膜元件静置箱T2 内清洗液高度是膜元件静置箱T2高度的50%-80%。
(5)根据上述(1)所述的半透膜膜元件清洗装置,清洗液加药系统主 要包含清洗水箱阀门V7、清洗水泵P1、控压阀VP和压力传感器Pr1。
(6)根据上述(5)所述的半透膜膜元件清洗装置,控压阀VP的压力范 围在0.02-0.06Mpa。
此外,在本发明中,所述半透膜膜元件为反渗透(RO)膜膜元件或纳滤 (NF)膜膜元件。
根据本发明,对于严重污染的反渗透(RO)膜膜元件或纳滤(NF)膜膜 元件,使用该装置,在逆向清洗时,调节清洗水箱T1和膜元件静置箱T2中 清洗液的浓度与膜元件静置箱T2中液位,降低了膜元件在逆向清洗时的渗透 压,保证清洗液更容易透过膜元件。并且通过控制逆向清洗压力,降低膜元 件在清洗过程中的损坏率;清洗液从膜元件产水管进入,逆向清洗可以将严 重污染结垢物质疏松化,获得更好的清洗效果;清洗装置中膜元件直接连接 清洗管路,无膜壳,结构简单、便于拆装。
附图说明
图1是表示本发明的清洗装置的一个实施方式的流程图。
图2是表示本发明的清洗装置的另一个实施方式的流程图。
符号说明
T1:清洗水箱;
T2:膜元件静置箱;
V1-V6:调节阀门;
V7:清洗水箱阀门;
V8:清洗水箱回流阀门;
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