[发明专利]一种新型的正交狭缝光波导结构及制造方法有效
| 申请号： | 201410579910.X | 申请日： | 2014-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN104267463A | 公开（公告）日： | 2015-01-07 |
| 发明（设计）人： | 刘艳;韩根全;颜静 | 申请（专利权）人： | 重庆大学 |
| 主分类号： | G02B6/122 | 分类号： | G02B6/122;G02B6/136 |
| 代理公司： | 重庆市前沿专利事务所(普通合伙) 50211 | 代理人： | 郭云 |
| 地址： | 400044 *** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种新型的正交狭缝光波导结构及制造方法,包括衬底(101)，位于衬底(101)上的单晶硅层(102)及位于单晶硅层(102)上的正交狭缝结构，正交狭缝结构包括：正交结构的狭缝区域(104，105，107)，位于狭缝区域(104，105，107)正交交汇的中心区域(108)及包围狭缝区域(104，105，107)的周围区域(103，106)，中心区域(108)的折射率小于狭缝区域(104，105，107)的折射率，周围区域(103，106)的折射率大于狭缝区域(104，105，107)的折射率。本发明实现光场在狭缝结构中传输时的二维限制，并且通过调整结构尺寸和狭缝区域的材料，可以实现波导的色散与非线性特性的有效调节。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 正交 狭缝 波导 结构 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种新型的正交狭缝光波导结构，其特征在于，包括衬底(101)，位于所述衬底(101)上的单晶硅层(102)及位于所述单晶硅层(102)上的正交狭缝结构，所述正交狭缝结构包括：正交结构的狭缝区域(104，105，107)，位于所述狭缝区域(104，105，107)正交交汇处的中心区域(108)及包围所述狭缝区域(104，105，107)的周围区域(103，106)，所述中心区域(108)的折射率小于所述狭缝区域(104，105，107)的折射率，所述周围区域(103，106)的折射率大于所述狭缝区域(104，105，107)的折射率。
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