[发明专利]6H-SiC材料应力沿表面法线分布信息的测量方法有效

专利信息
申请号: 201410578854.8 申请日: 2014-10-24
公开(公告)号: CN104316550A 公开(公告)日: 2015-01-28
发明(设计)人: 张金风;聂玉虎;张鹏;蒋仁渊;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: G01N23/20 分类号: G01N23/20
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华;朱卫星
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种6H-SiC材料应力沿表面法线分布信息的测量方法。其技术步骤是:将6H-SiC材料水平放置于x射线衍射仪的载物台;依次对6H-SiC材料中的(0002)晶面和()晶面进行对光;以不小于50nm的步长减小x射线透射深度,并在各透射深度下获取()晶面的布拉格角;将测得的一组布拉格角代入布拉格方程,得到一组()晶面的面间距;根据这一组面间距计算6H-SiC材料应力沿材料表面法线分布的信息。本发明具有测试成本低,且对被测材料无损伤的优点,可用于精确分析应力影响材料结晶质量的机理,提高材料结晶质量。
搜索关键词: sic 材料 应力 表面 法线 分布 信息 测量方法
【主权项】:
一种6H‑SiC材料应力沿表面法线分布信息的测量方法,包括如下步骤:(1)将6H‑SiC材料水平放置于x射线衍射仪的载物台,该载物台设有三个转动轴,分别为ω轴、χ轴和φ轴,其中,ω轴平行于载物台,且垂直于x射线入射光束与x射线探测器组成的平面,χ轴平行于载物台,且与ω轴垂直,φ轴垂直于载物台;探测器可绕与ω轴重合的2θ轴旋转;(2)依次对所述6H‑SiC材料中的(0002)晶面和晶面进行对光;(3)同时旋转载物台的ω轴、χ轴和φ轴,使该6H‑SiC材料以晶面法线为轴单方向旋转,并以不小于50nm的步长逐渐减小x射线透射深度,每改变一次透射深度就对晶面进行一次三轴晶2θ‑ω扫描,获取与该透射深度所对应的晶面的布拉格角θ。对所有的x射线透射深度依次进行三轴晶2θ‑ω扫描,最后得到一组晶面的布拉格角θi,i=1,2,…,N,N表示x射线不同透射深度的个数;(4)将测得的一组布拉格角θi依次代入以下布拉格方程,得到一组晶面的面间距di<mrow><msub><mi>d</mi><mi>i</mi></msub><mo>=</mo><mfrac><mi>n&lambda;</mi><mrow><mn>2</mn><mi>sin</mi><msub><mi>&theta;</mi><mi>i</mi></msub></mrow></mfrac><mo>,</mo><mi>i</mi><mo>=</mo><mn>1</mn><mo>,</mo><mn>2</mn><mo>,</mo><mo>.</mo><mo>.</mo><mo>.</mo><mo>,</mo><mi>N</mi></mrow>其中,λ为x射线源所发射的x射线的波长,n为衍射级数;(5)将计算得到的一组面间距di依次代入以下方程组,得到6H‑SiC材料沿表面法线分布的(0002)面内应力分量εi//和c轴方向应力分量εi<mrow><msup><msub><mi>&epsiv;</mi><mi>i</mi></msub><mrow><mo>/</mo><mo>/</mo></mrow></msup><mo>=</mo><mfrac><mrow><mfrac><mrow><msub><mi>d</mi><mi>i</mi></msub><mo>-</mo><msub><mi>d</mi><mi>r</mi></msub></mrow><msub><mi>d</mi><mi>r</mi></msub></mfrac><mrow><mo>(</mo><msup><mi>h</mi><mn>2</mn></msup><mo>+</mo><msup><mi>k</mi><mn>2</mn></msup><mo>+</mo><msup><mi>l</mi><mn>2</mn></msup><mo>)</mo></mrow></mrow><mrow><mrow><mo>(</mo><msup><mi>h</mi><mn>2</mn></msup><mo>+</mo><msup><mi>k</mi><mn>2</mn></msup><mo>)</mo></mrow><mo>-</mo><mfrac><msub><mrow><mn>2</mn><mi>v</mi></mrow><mrow><mn>6</mn><mi>H</mi></mrow></msub><mrow><mn>1</mn><mo>-</mo><msub><mi>v</mi><mrow><mn>6</mn><mi>H</mi></mrow></msub></mrow></mfrac><msup><mi>l</mi><mn>2</mn></msup></mrow></mfrac><mo>,</mo><mi>i</mi><mo>=</mo><mn>1</mn><mo>,</mo><mn>2</mn><mo>,</mo><mo>.</mo><mo>.</mo><mo>.</mo><mo>,</mo><mi>N</mi></mrow><mrow><msup><msub><mi>&epsiv;</mi><mi>i</mi></msub><mo>&perp;</mo></msup><mo>=</mo><mo>-</mo><mfrac><msub><mrow><mn>2</mn><mi>v</mi></mrow><mrow><mn>6</mn><mi>H</mi></mrow></msub><mrow><mn>1</mn><mo>-</mo><msub><mi>v</mi><mrow><mn>6</mn><mi>H</mi></mrow></msub></mrow></mfrac><msup><msub><mi>&epsiv;</mi><mi>i</mi></msub><mrow><mo>/</mo><mo>/</mo></mrow></msup></mrow>其中,dr为所参考的晶面的面间距,h、k、l为晶面的米勒指数,ν6H为6H‑SiC材料的泊松比,取值为0.142。
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