[发明专利]具有限制区域的含镓和氮的激光装置

摘要

本发明提供了具有限制区域的含镓和氮的激光装置。在实例中，本发明提供了一种用于制造激光二极管装置的方法。该方法包括，提供含镓和氮的基板构件，所述含镓和氮的基板构件包括表面区域、覆盖表面区域的释放材料、n型含镓和氮的材料；覆盖n型含镓和氮的材料的有源区域，p型含镓和氮的材料；以及覆盖p型含镓和氮的材料的第一透明导电氧化物材料、和覆盖第一透明导电氧化物材料的界面区域。该方法包括将界面区域与处理基板结合，并使释放材料经由能源以开始含镓和氮的基板构件的释放。

主权项

1.一种激光二极管装置，包括：含镓和氮的表面区域、覆盖所述表面区域的释放材料、n型含镓和氮的材料；覆盖所述n型含镓和氮的材料的有源区域、p型含镓和氮的材料；以及覆盖所述p型含镓和氮的材料的第一透明导电氧化物材料、和覆盖所述第一透明导电氧化物材料的界面区域；结合至所述界面区域的处理基板，所述装置进一步包括：用所述n型含镓和氮的材料构造以形成n型脊部结构的脊部结构，和覆盖所述n型含镓和氮的材料的介电材料，以及覆盖所述n型含镓和氮的材料的暴露部分的第二透明导电氧化物材料，使得在所述第一透明导电氧化物材料和所述第二透明导电氧化物材料之间构造有源区域以在所述有源区域内进行光学引导。