[发明专利]一种盖板及承载装置有效
| 申请号： | 201410532503.3 | 申请日： | 2014-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN105576101B | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | 张君;李兴存 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/48 | 分类号： | H01L33/48;H01L33/52 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种盖板及承载装置，该盖板用于将多个基片固定在托盘上，且在盖板的表面设置有多个贯穿盖板厚度的通孔，各个通孔与托盘的用于承载各个基片的承载位一一对应，盖板采用可消耗等离子体中仅与掩膜发生反应的自由基的材料制成；并且，盖板上表面包括多个反应区域，各个反应区域为一一对应地位于各个通孔周边的环形区域，并且各个反应区域的面积大小和与之对应的通孔位置处的刻蚀选择比大小成正相关关系。本发明提供的盖板，其可以提高单次工艺的片间刻蚀均匀性，从而可以提高单次工艺的良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 盖板 反应区域 托盘 承载装置 通孔 等离子体 承载 盖板上表面 刻蚀均匀性 刻蚀选择比 正相关关系 表面设置 环形区域 通孔位置 通孔周边 良品率 自由基 掩膜 消耗 贯穿 | ||
【主权项】：
1.一种盖板，用于将多个基片固定在托盘上，且在所述盖板上表面设置有多个贯穿所述盖板厚度的通孔，各个通孔与所述托盘的用于承载各个基片的承载位一一对应，其特征在于，所述盖板上表面采用可消耗等离子体中仅与掩膜发生反应的自由基的材料制成；并且，所述盖板上表面包括多个反应区域，各个反应区域为一一对应地位于各个通孔周边的环形区域，并且各个反应区域的面积大小和与之对应的通孔位置处的刻蚀选择比大小成正相关关系。
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