[发明专利]一种玻璃模具的专用模仁的制备工艺在审
| 申请号： | 201410518095.6 | 申请日： | 2014-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN104328383A | 公开（公告）日： | 2015-02-04 |
| 发明（设计）人： | 潘文祥 | 申请（专利权）人： | 惠安县高智模具技术服务有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 362103 福建省泉*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种玻璃模具的专用模仁的制备工艺，包括以下步骤：a.通过磁控溅射镀膜方式在模仁本体上镀上一层钛-硅薄膜层，该磁控溅射镀膜方式包括以下子步骤：a1.采用磁控溅射镀膜机，使用直径为60mm，厚度为3mm，纯度为5N的钛靶，基片为SiO2薄片；a2.基片镀膜前先用丙酮清洗，然后用超声波清洗，最后用去离子水冲洗风干；a3.在沉积薄膜之前，钛靶用Ar离子轰击预溅射5分钟，待溅射稳定后再移开基片挡板开始薄膜的沉积；b.通过非平衡磁控溅射方法在钛-硅薄膜层上覆盖一层钛-硅-氮薄膜层；c.通过非平衡磁控溅射方法在钛-硅-氮薄膜层上覆盖一层钛-铝-硅-氮薄膜层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 玻璃 模具 专用 制备 工艺 | ||
【主权项】：
一种玻璃模具的专用模仁的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：a、通过磁控溅射镀膜方式在模仁本体上镀上一层50～100纳米的钛‑硅薄膜层，该磁控溅射镀膜方式包括以下子步骤：a1、采用沈阳科学仪器股份有限公司制造的FJL560 型高真空多功能磁控溅射镀膜机, 使用直径为60 mm, 厚度为3 mm, 纯度为5 N 的钛靶, 基片为40 mm×20 mm×2 mm 的SiO2 薄片，a2、基片镀膜前先用丙酮清洗, 然后用超声波清洗, 最后用去离子水冲洗风干，a3、在沉积薄膜之前, 钛靶用Ar 离子轰击预溅射5 分钟, 待溅射稳定后再移开基片挡板开始薄膜的沉积；b、通过非平衡磁控溅射方法在钛‑硅薄膜层上覆盖一层钛‑硅‑氮薄膜层；c、通过非平衡磁控溅射方法在钛‑硅‑氮薄膜层上覆盖一层钛‑铝‑硅‑氮薄膜层。
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