[发明专利]粘合剂涂布装置及方法、显示装置用构件制造装置及方法有效
申请号: | 201410499403.5 | 申请日: | 2014-09-25 |
公开(公告)号: | CN104511400B | 公开(公告)日: | 2018-03-16 |
发明(设计)人: | 泷泽洋次;西垣寿 | 申请(专利权)人: | 芝浦机械电子装置株式会社 |
主分类号: | B05C5/02 | 分类号: | B05C5/02;B05C11/10;B05D3/06;G09F9/00 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人: | 臧建明 |
地址: | 日本神奈川县横*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种粘合剂涂布装置及其涂布方法、以及显示装置用构件的制造装置及其制造方法,可抑制涂布在工件上的粘合剂的临时硬化状态部分性地变动,从而可防止贴合品质的降低。一种粘合剂涂布装置(1),对构成显示装置的罩面板即工件(S)涂布通过照射UV光而硬化的粘合剂(R),且具有涂布部(10),一面相对于工件(S)相对移动一面将粘合剂(R)涂布在工件(S)上;及照射部(11),根据涂布部(10)与工件(S)的相对速度的变化,而以相对于涂布在工件(S)上的粘合剂(R)的每单位面积的照射量成为固定的方式照射UV光。 | ||
搜索关键词: | 粘合剂 装置 方法 显示装置 构件 制造 | ||
【主权项】:
一种粘合剂涂布装置,包括:涂布部,对构成显示装置的一对工件的至少一个工件,一面相对移动一面涂布通过照射能量而硬化的粘合剂;及照射部,对通过所述涂布部涂布的所述粘 合剂照射能量,抑制所述粘 合剂的流动,并使其临时硬化为维持缓冲性及粘合性的状态,其特征在于:所述照射部根据利用所述涂布部从所述粘合剂的涂布的开始端至结束端为止之间的、所述涂布部与所述工件的相对移动速度的变化,而以相对于涂布在所述工件上的所述粘合剂的每单位面积的照射能量的量成为固定的方式照射所述能量。
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