[发明专利]一种阵列基板和显示装置有效
| 申请号： | 201410491953.2 | 申请日： | 2014-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN104267547B | 公开（公告）日： | 2017-03-29 |
| 发明（设计）人： | 林丽锋;占红明;王永灿 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种阵列基板和显示装置，涉及显示技术领域，能够改善显示装置近光端和远光端的辉度不均匀的不良。该阵列基板包括矩阵式排布的多个像素单元，每个所述像素单元包括至少一个狭缝电极，所述狭缝电极的狭缝的延伸方向与液晶分子初始取向之间具有一定的夹角，所述狭缝电极的狭缝的延伸方向与液晶分子初始取向之间的夹角沿远离光源方向逐渐增加。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 显示装置 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，包括矩阵式排布的多个像素单元，每个所述像素单元包括至少一个狭缝电极，所述狭缝电极的狭缝的延伸方向与液晶分子初始取向之间具有一定的夹角，其特征在于，所述狭缝电极的狭缝的延伸方向与液晶分子初始取向之间的夹角沿远离光源方向逐渐增加；其中，所述像素单元中的所述狭缝电极的所有狭缝的延伸方向相同，或者位于所述像素单元中的所述狭缝电极的中线两侧的狭缝的延伸方向以所述中线为对称轴相互对称。
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