[发明专利]偏振片的制造方法在审
| 申请号： | 201410483894.4 | 申请日： | 2014-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN104635288A | 公开（公告）日： | 2015-05-20 |
| 发明（设计）人： | 关口惠;久门义明;远山浩史;石黑诚;筱田克己;实藤龙二;佐佐田泰行;武田淳;古川裕道 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 吴倩;张楠 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题是提供即使在将起偏器薄膜化的情况下，也能够抑制起因于染色处理的基材层的染色、抑制透射率的降低的偏振片的制造方法。本发明的偏振片的制造方法为如下的偏振片的制造方法，其是制作具有起偏器的偏振片的偏振片的制造方法，其具有以下起偏器形成工序：通过对将低透湿层、基材层及亲水性高分子层依次层叠而成的层叠体实施染色处理而使亲水性高分子层吸附二色性物质，从而使亲水性高分子层作为起偏器发挥功能。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种偏振片的制造方法，其是制作具有起偏器的偏振片的偏振片的制造方法，其具有以下起偏器形成工序：通过对将低透湿层、基材层及亲水性高分子层依次层叠而成的层叠体实施染色处理而使所述亲水性高分子层吸附二色性物质，从而使所述亲水性高分子层作为所述起偏器发挥功能。
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