[发明专利]一种检测扫描机台的性能方法有效
申请号: | 201410440447.0 | 申请日: | 2014-09-01 |
公开(公告)号: | CN104332421B | 公开(公告)日: | 2017-05-03 |
发明(设计)人: | 何理;许向辉 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 上海申新律师事务所31272 | 代理人: | 吴俊 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及半导体检测领域,具体涉及一种检测扫描机台的性能方法,在扫描机台处在最佳状态的时候,使用标准控片建立数字化的检测晶圆,以此作判定机台PM处理后的扫描缺陷性能标准,使用该方法可以准确了解机台的光学参数是否得到恢复,能及发现机台参数的变化,并予以调整,减少对生产线受影响的产品,尤其是对高精度的缺陷扫描机台的性能维护有很大的帮助。 | ||
搜索关键词: | 一种 检测 扫描 机台 性能 方法 | ||
【主权项】:
一种检测扫描机台的性能方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤S1、提供一具有图案的监控片,将所述监控片划分为若干面积均等的单元区,利用一扫描机台对所述监控片重复扫描多次,获取对应每个单元区的多个灰阶数值;步骤S2、当其中一个或多个所述单元区的所述灰阶数值与临近的其他所述单元区的所述灰阶数值存在明显偏移,判断存在明显偏移的所述单元区为缺陷所在的单元区,并将所述缺陷所在单元区进行滤除;步骤S3、将保留下来的每个单元区所对应的多个灰阶数值进行平均化处理,以生成一数字化的模拟晶圆;步骤S4、对所述扫描机台进行维护处理,之后利用该扫描机台对所述监控片进行扫描,获取每个单元区的灰阶数值;当其中一个或多个所述单元区的所述灰阶数值与临近的其他所述单元区的所述灰阶数值存在明显偏移,判断存在明显偏移的所述单元区为缺陷所在的单元区,并将所述缺陷所在单元区进行滤除,生成一数字化的检测晶圆;步骤S5、将所述数字化的模拟晶圆与所述数字化的检测晶圆对应芯片单元上所有灰阶数值进行比对,通过所述灰阶数值有无明显偏差,判断经过维护处理后的扫描机台是否存在异常,若存在异常,则继续进行步骤S4。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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