[发明专利]一种蒸镀设备及蒸镀方法有效
申请号: | 201410433251.9 | 申请日: | 2014-08-28 |
公开(公告)号: | CN104233195B | 公开(公告)日: | 2017-02-08 |
发明(设计)人: | 吴海东;马群;金泰逵 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/54 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人: | 许静,黄灿 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种蒸镀设备及蒸镀方法,该蒸镀设备包括用于承载待蒸镀基板的机台,所述机台的承载面包括多个分区,每一分区对应所述待蒸镀基板的一蒸镀区;分区温控装置,包括至少两个温控部和温度控制装置,其中,每一所述分区设置一所述温控部,所述温度控制装置用于对所述温控部所提供的温度进行控制,以控制对应的所述蒸镀区上的镀膜的沉积速率。通过本发明,可以在蒸镀一批基板的初期,测量完成蒸镀后的基板的镀膜的厚度,并根据测量的镀膜的厚度,调节不同分区的温控部所提供的温度,以控制下一待蒸镀基板的不同蒸镀区上镀膜的沉积速率,从而保证后续蒸镀的基板的镀膜的厚度的均匀性。 | ||
搜索关键词: | 一种 设备 方法 | ||
【主权项】:
一种蒸镀设备,其特征在于,包括:用于承载待蒸镀基板的机台,所述机台的承载面包括多个分区,每一分区对应所述待蒸镀基板的一蒸镀区;分区温控装置,包括温度控制装置和至少两个温控部,其中,每一所述分区设置一所述温控部,所述温度控制装置用于对所述温控部所提供的温度进行控制,以控制对应的所述蒸镀区上的镀膜的沉积速率。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司,未经京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410433251.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类