[发明专利]一种双面ITO film结构电容屏及其制作方法

摘要

本发明公开了一种双面ITOfilm的制作方法及按此方法制作的双面ITO结构电容屏，制作方法包括：（1）在PET基膜上采用磁控溅射镀膜制备双面ITO导电膜；（2）在ITO导电膜上采用蚀刻膏、酸碱蚀刻或黄光等工艺制作出双面ITO图案；（3）采用丝网印刷、丝网印刷和激光雕刻或黄光等工艺制作出双面边缘电极引线；（4）将上述制得的ITO传感器粘贴在面板上。本发明可在保证触控效果的情况下，降低film-film结构电容屏的原材料成本，同时使轻产品更具轻薄化，且提高产品透光性能，此外简化了电容屏的制程工序，提高了生产效率。

主权项

一种双面ITO film的制作方法，其特征在于，包括以下工艺步骤：在PET基膜上采用磁控溅射镀膜制备双面ITO导电膜；在ITO导电膜上制作出双面ITO图案；制作双面边缘电极引线；将上述制得的ITO传感器粘贴在面板上。