[发明专利]条纹相移与条纹细分联合控制的超精密位移定位检测方法有效
申请号: | 201410401098.1 | 申请日: | 2014-08-14 |
公开(公告)号: | CN104165595B | 公开(公告)日: | 2017-01-11 |
发明(设计)人: | 时轮;陈家宝 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | G01B11/04 | 分类号: | G01B11/04 |
代理公司: | 上海交达专利事务所31201 | 代理人: | 王毓理,王锡麟 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种仪器及其部件的位置或状态的调整领域的基于条纹相移与条纹细分联合控制的超精密位移定位检测方法,首先对线性位移平台进行粗定位,当光栅定位距离小于光栅干涉仪参考光栅的光栅常数时,将干涉条纹相移,然后对条纹信号进行细分处理,当线性位移平台运动到预定的条纹细分结束区间时停止运动,实现微定位。本发明通过干涉条纹的相移提高检测分辨率,通过低倍数的条纹细分完成模拟量检测的反馈控制,进而实现超精密的位移定位检测控制。 | ||
搜索关键词: | 条纹 相移 细分 联合 控制 精密 位移 定位 检测 方法 | ||
【主权项】:
一种基于条纹相移与条纹细分联合控制的超精密位移定位检测方法,其特征在于,首先对线性位移平台进行粗定位,当光栅定位距离小于光栅干涉仪参考光栅的光栅常数时,将干涉条纹相移,然后对条纹信号进行细分处理,当线性位移平台运动到预定的条纹细分结束区间时停止运动,实现微定位;所述的微定位的具体包括以下步骤:步骤一、将参考光栅固定于单层的线性位移平台上,通过成像透镜于视场中形成干涉条纹,通过一个光电传感器检测该干涉条纹;步骤二、将光电传感器通过相移装置于视场中向上或向下移动,对干涉条纹产生相移,记录相移起始点时光电传感器的信号大小,并判断该点斜率符号;步骤三、对光电传感器的信号进行连续数据采集,当采集数据显示线性位移平台到达条纹细分结束区间,则判断此时采集点的斜率符号,当该点的斜率与起始点的斜率符号相同,即找到幅值相同、变化方向相同的周期点,线性位移平台停止运动,完成微定位。
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