[发明专利]气体过滤方法有效
| 申请号： | 201410374698.3 | 申请日： | 2014-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN104190180A | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | 雷通;桑宁波 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | B01D47/02 | 分类号： | B01D47/02;C23C16/26 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 吴俊 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体制备领域，具体涉及一种气体过滤方法，在利用乙炔进行PECVD沉积工艺之前，先对钢瓶内存储的乙炔进行过滤、干燥处理，可有效避免钢瓶内的其他物质随着乙炔进入行PECVD机台进行生产从而导致非晶碳薄膜厚度产生漂移。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 过滤 方法 | ||
【主权项】：
一种气体过滤方法，应用于PECVD工艺中，其特征在于，包括如下步骤： 步骤S1：提供一气体存储装置，所述气体存储装置内储存有包括乙炔气体和杂质的混合气体，通过所述气体存储装置外设的一气阀将所述混合气体输送至一过滤系统； 步骤S2：利用所述过滤系统对所述混合气体进行过滤，滤去所述杂质，并将乙炔气体输送至一干燥系统； 步骤S3：利用所述干燥系统对乙炔气体进行干燥处理后输送至一反应腔，并进行PECVD工艺。
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