[发明专利]一种具有集成检测标记的光刻掩膜版及其应用有效
申请号: | 201410374231.9 | 申请日: | 2014-07-31 |
公开(公告)号: | CN105319834B | 公开(公告)日: | 2019-10-25 |
发明(设计)人: | 刘欢;沈燕;吴萌萌;张玉萍;徐现刚 | 申请(专利权)人: | 山东华光光电子股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/44 | 分类号: | G03F1/44 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 吕利敏 |
地址: | 250101 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 一种具有集成检测标记的光刻掩膜版,包括在所述光刻掩膜版上设置的对准标记、测量标记和包含脊形波导信息的图案,所述对准标记用于与晶片定位边对齐;测量标记A包括至少两条分别与所述对准标记相垂直的标记条;所述每条标记条分别包括个数相同的标记格顺次垂直于对准标记排列。本发明所述检验标记包括对准标记与偏离度测量标记,其中的偏离度测量标记设计,可同时用于检验工艺中图形质量。本发明提供的检验标记给出测量偏离度的简单有效的方法,有助于节省购买专用设备的资金、提高产品合格率;同时集偏离度测量与图形质量检验于一体,减少检验标记在晶片上的占用面积,提高有效产品产出率。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 集成 检测 标记 光刻 掩膜版 及其 应用 | ||
【主权项】:
1.一种具有集成检测标记的光刻掩膜版,其特征在于,该掩膜板包括在所述光刻掩膜版上设置的对准标记、测量标记和包含脊形波导信息的图案,所述脊形波导信息的图案的方向是根据实际需要设计为垂直或平行于所述对准标记的:所述对准标记用于与晶片定位边对齐;所述的测量标记包括测量标记A,所述的测量标记A包括至少两条分别与所述对准标记相垂直的标记条;所述标记条之间的距离小于等于所述晶片定位边的长度;所述每条标记条分别包括个数相同的标记格顺次垂直于对准标记排列,所述单个标记格的尺寸相同。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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