[发明专利]提高通孔OPC模型的适用面的方法有效
申请号: | 201410349884.1 | 申请日: | 2014-07-22 |
公开(公告)号: | CN105334695B | 公开(公告)日: | 2020-01-14 |
发明(设计)人: | 黄宜斌;王辉 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36 |
代理公司: | 31100 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 徐洁晶 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种提高通孔OPC模型的适用面的方法,包括:第一步,提供对称设计的一测试图形,测试图形上包括多个排成阵列的图形单元,每一图形单元代表实际晶圆上的一通孔;测试图形的中心为基准点,多个图形单元以基准点呈轴对称和中心对称;第二步,以基准点为轴心,旋转图形单元的位置至某一角度而图形单元本身不旋转,形成新的测试图形,或者将图形单元分为多个列,各列之间交错地向上或者向下移动某一距离,使移动后的某一列与旁边的另一列之间形成某一参差角度,形成新的测试图形。本发明突破了现有的通孔OPC模型覆盖能力的局限,使得其测试图形能够涵盖更多实际的复杂设计情形。 | ||
搜索关键词: | 提高 opc 模型 适用 方法 | ||
【主权项】:
1.一种提高通孔OPC模型的适用面的方法,包括步骤:/n提供对称设计的一测试图形(400),所述测试图形(400)上包括多个排成阵列的图形单元(401),每一所述图形单元(401)代表实际晶圆上的一通孔;所述测试图形(400)的中心为基准点,多个所述图形单元(401)中的一个位于所述基准点上,其余所述图形单元(401)以所述基准点呈轴对称和中心对称;/n以所述基准点为轴心,旋转所述图形单元(401)的位置至某一角度而所述图形单元(401)本身不旋转,形成新的所述测试图形(400’),所述新的测试图形中的图形单元为非对称。/n
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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