[发明专利]使用α-羟基羰基化合物作为还原剂有效

专利信息
申请号: 201410341330.7 申请日: 2006-12-29
公开(公告)号: CN104188943A 公开(公告)日: 2014-12-10
发明(设计)人: 理查德·约翰·诺克斯 申请(专利权)人: 莫沃斯技术有限公司
主分类号: A61K31/12 分类号: A61K31/12;A61K31/396;A61K31/04;A61K31/045;A61K31/192;A61K31/4164;A61K31/407;A61K31/345;A61K31/53;A61K45/00;A61P35/00;A61P17/06
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 王芝艳;吴小瑛
地址: 英国*** 国省代码: 英国;GB
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摘要: 发明提供能够形成环二聚体的α-羟基羰基化合物作为还原剂的应用。还提供可还原化合物,尤其是还原活化的前药相应的还原方法。所用α-羟基羰基化合物的实例为二羟基丙酮、乙醇醛、甘油醛、赤藓糖、木酮糖、赤藓酮糖、或3-羟基-2-丁酮。
搜索关键词: 使用 羟基 羰基 化合物 作为 还原剂
【主权项】:
式I的化合物作为还原有机化合物中的可还原基团的试剂的应用,所述有机化合物含有一个或多个可还原基团,其中所述式I的化合物具有如下结构:其中R1表示H、芳基、Het或C1‑12烷基,所述C1‑12烷基任选被一个或多个取代基取代,所述取代基选自OH、卤素和C1‑3烷氧基,R2表示H或C1‑6烷基,所述C1‑6烷基任选被一个或多个OH基取代,芳基表示C6‑10碳环芳基,所述C6‑10碳环芳基可被一个或多个选自卤素、C1‑6烷基和C1‑6烷氧基的取代基取代,Het表示4元至14元杂环基,其含有一个或多个选自氧、氮和/或硫的杂原子,所述杂环基可含有一个、两个或三个环,并可以被一个或多个选自卤素、C1‑6烷基和C1‑6烷氧基的取代基取代,所述式I的化合物的特征在于其能够形成下式Ia的环状二聚体:其中R1和R2如上述所定义。
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