[发明专利]一种检测球面光学元件亚表面损伤程度表征参数的方法有效

专利信息
申请号: 201410330795.2 申请日: 2014-07-11
公开(公告)号: CN104132944B 公开(公告)日: 2017-02-15
发明(设计)人: 王海容;陈洪凤;肖利辉;付广龙;蒋庄德 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88;G01B11/02;G01B11/06;G01B11/22
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司61200 代理人: 朱海临
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种检测球面光学元件亚表面损伤程度表征参数的方法,其特征在于,采用磁流变抛光工艺在球形光学元件上加工出一环形截面,腐蚀处理加工后的环形截面,使用激光共聚焦显微镜观察暴露、放大的微裂纹形貌,对微裂纹二维图像进行测量处理和计算,得到重积层在抛光后环形截面上的宽度W、亚表面损伤层在抛光后环形截面上的宽度S、微裂纹的长度AB、密度及微裂纹与亚表面损伤层外径的夹角θ;通过已知的球面光学元件的曲率半径R,以及所得数据信息,根据平面几何关系,计算获得球面光学元件亚表面损伤层厚度dssd、亚表面损伤层的深度hssd、微裂纹在光学元件球面上的径向长度dscrack。
搜索关键词: 一种 检测 球面 光学 元件 表面 损伤 程度 表征 参数 方法
【主权项】:
一种检测球面光学元件亚表面损伤程度表征参数的方法,其特征在于,包括下述步骤:第一步,采用磁流变抛光工艺在球面光学元件上加工出一环形截面,其内层为有微裂纹,孔洞的环带状亚表面损伤层;第二步,腐蚀处理加工后的环形截面,将亚表面损伤层上的微裂纹更进一步暴露、放大;第三步,使用激光共聚焦显微镜观察暴露、放大的微裂纹形貌,记录清晰二维图像;第四步,对微裂纹二维图像进行测量处理和计算,得到下列数据信息:重积层在抛光后环形截面上的宽度W、亚表面损伤层在抛光后环形截面上的宽度S、微裂纹的长度AB、微裂纹密度及微裂纹与环形截面上亚表面损伤层外径的夹角θ;第五步,通过已知的球面光学元件的曲率半径R,以及第四步所得数据信息,根据平面几何关系,计算获得球面光学元件亚表面损伤层厚度dssd、亚表面损伤层的深度hssd、微裂纹在光学元件球面上的径向长度dcrack;所述第五步的表征参数dssd、hssd、dcrack的具体算法为:通过试样已知的球面光学元件的曲率半径R,以及图像处理得到的W、S,根据下式:cos∂w=dw/2R---(1)]]>为环形截面的外径与曲率半径R之间的夹角:dw为环形截面直径;将式(1)带入到下式:Rw2=R2+W2-2WRcos∂w---(2)]]>式中Rw为环形截面上亚表面损伤层外径到球心的距离,得到下式:Rw2=R2+W2-Wdw---(3)]]>根据以下三式:cos∂s=-cos(π-∂s)---(4)]]>cos(π-∂s)=(Rw2+W2-R2)/2RwW---(5)]]>Rs2=Rw2+S2-2SRwcos∂s---(6)]]>式中为亚表面损伤层的外周线与球心围成的锥面的底角;Rs为环形截面上亚表面损伤层内径到球心的距离;将式(3)、(5)带入式(6),得到该球面光学元件的亚表面损伤层厚度dssd,dssd=Rw‑Rs,由式(3),得到亚表面损伤层的深度hssd,hssd=R‑Rw;通过R、W、AB及θ,按照抛光后环形截面的平面几何关系有:dw/2‑W=OAOB2=OA2+AB2‑2×OA×ABcosθ   (7)即可求得微裂纹在环形截面上的径向长度:Scrack=OA‑OB;其中,OA和OB分别代表微裂纹的两个端点A和B到抛光后剖面圆心O的距离;按照抛光后环形截面与球面光学元件的几何关系有:Rcrack2=Rw2+Scrack2-2WScrackcos∂s---(8)]]>其中:Rcrack为微裂纹的端点B到球心的距离;将式(3)、式(5)代入式(8),得到微裂纹在光学元件球面上的径向长度:dcrack=Rw‑Rcrack。
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