[发明专利]形变测量成像系统

摘要

本公开涉及形变测量成像系统。在一个实施方式中，实现了一种观测系统。该观测系统执行双焦平面成像，其中在样本基板和基准基板上同时执行同时对两个焦平面的同时成像以确定形变。此外，实现了高反射背景以在形变测量期间提供更高分辨率。

主权项

一种处理光的系统，所述系统包括：照明光学子系统，所述照明光学子系统被构造成产生照明光：双焦平面成像系统，所述双焦平面成像系统包括：分束器，所述分束器被定位成接收来自所述照明光学子系统的所述照明光；双折射透镜，所述双折射透镜被定位成接收来自所述分束器的所述照明光的至少一部分；和双合物镜，所述双合物镜被定位成接收从所述双折射透镜通过的所述照明光，并且所述双合物镜被进一步定位成将所述照明光引导到前焦平面和后焦平面，其中所述前焦平面在样本基板上，所述后焦平面位于所述样本基板和基准基板之间的界面上，其中，所述前焦平面比所述后焦平面更接近所述双合物镜；所述双合物镜被进一步定位成接收从所述前焦平面和所述后焦平面反射的光；双折射透镜被进一步定位成接收从所述双合物镜通过的反射光；所述分束器被进一步定位成接收来自所述双折射透镜的所述反射光；其中，所述双焦平面成像系统进一步包括：孔径光阑，所述孔径光阑被定位成接收从所述分束器通过的所述反射光的至少一部分；去多路复用器，所述去多路复用器被定位成接收从所述孔径光阑通过的反射光，所述去多路复用器分离与所述前焦平面和所述后焦平面相对应的反射光；以及探测装置，所述探测装置被定位成在单个像平面上接收经分离的与所述前焦平面和所述后焦平面相对应的反射光,其中，所述去多路复用器被构造成用于实现偏振多路复用；与所述前焦平面相对应的反射光通过所述双合物镜和所述双折射透镜，以形成第一偏振光束和第二偏振光束，其中所述第一偏振光束和所述第二偏振光束是具有正交偏振的重合光束；与所述第二偏振光束相比在所述双折射透镜中经受了较高折射率的所述第一偏振光束通过所述去多路复用器到达所述探测装置，而所述去多路复用器阻止所述第二偏振光束；与所述后焦平面相对应的所述反射光通过所述双合物镜和所述双折射透镜，以形成第三偏振光束和第四偏振光束，其中所述第三偏振光束和所述第四偏振光束是具有正交偏振的重合光束；并且与所述第四偏振光束相比在所述双折射透镜中经受了较低折射率的所述第三偏振光束通过所述去多路复用器到达所述探测装置，而所述去多路复用器阻止所述第四偏振光束。