[发明专利]玻璃基板的蚀刻方法及蚀刻浸泡装置有效
| 申请号： | 201410298834.5 | 申请日： | 2014-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN104045242A | 公开（公告）日： | 2014-09-17 |
| 发明（设计）人： | 李嘉 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种玻璃基板的蚀刻方法及蚀刻浸泡装置，该玻璃基板的蚀刻方法包括如下步骤：步骤1.提供待蚀刻的玻璃基板(1)、刻蚀槽(3)、蚀刻药液及供给管路(7)；步骤2.在刻蚀槽(3)内设置一浸泡槽(9)；步骤3.所述供给管路(7)向浸泡槽(9)内注入蚀刻药液直至注入预定量的蚀刻药液；步骤4.将待蚀刻的玻璃基板(1)送入刻蚀槽(3)内；步骤5.升高浸泡槽(9)直至其内蚀刻药液完全浸没玻璃基板(1)；步骤6.达到预定浸泡时间后，降低浸泡槽(9)露出玻璃基板(1)。该玻璃基板的蚀刻方法简单、易操作，能够缩短蚀刻制程时间，提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 玻璃 蚀刻 方法 浸泡 装置 | ||
【主权项】：
一种玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供待蚀刻的玻璃基板(1)、刻蚀槽(3)、蚀刻药液(6)及供给管路(7)；步骤2、在刻蚀槽(3)内设置一浸泡槽(9)；步骤3、所述供给管路(7)向浸泡槽(9)内注入蚀刻药液(6)直至注入预定量的蚀刻药液(6)；步骤4、将待蚀刻的玻璃基板(1)送入刻蚀槽(3)内；步骤5、升高浸泡槽(9)直至其内蚀刻药液(6)完全浸没玻璃基板(1)；步骤6、达到预定浸泡时间后，降低浸泡槽(9)露出玻璃基板(1)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司，未经深圳市华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410298834.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：路径关键帧相关信息自动更新的方法和系统
- 下一篇：负离子绝缘复合板制作方法
