[发明专利]玻璃基板的蚀刻方法及蚀刻浸泡装置有效

专利信息
申请号: 201410298834.5 申请日: 2014-06-26
公开(公告)号: CN104045242A 公开(公告)日: 2014-09-17
发明(设计)人: 李嘉 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: C03C15/00 分类号: C03C15/00
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人: 林才桂
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 玻璃 蚀刻 方法 浸泡 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及液晶显示器的制程领域,尤其涉及一种玻璃基板的蚀刻方法及蚀刻浸泡装置。

背景技术

液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点,得到了广泛的应用,如:移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。

薄膜晶体管液晶显示器一般包括壳体、设于壳体内的液晶面板及设于壳体内的背光模组(Backlight module)。其中,液晶面板的结构是由一薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Array Substrate,TFT Array Substrate)、一彩色滤光片基板(Color Filter,CF)、以及一配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成,其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转,将背光模组的光线折射出来产生画面。

上述TFT-LCD的制程过程一般包括:前段阵列(Array)制程,主要是制造TFT基板及CF基板;中段成盒(Cell)制程,主要是将TFT基板与CF基板贴合,在二者之间添加液晶,形成液晶面板;及后段模组组装制程,主要是将液晶面板与背光模组、PCB等其它零部件进行组装。

前段阵列制程又包括:玻璃基板的清洗与干燥、镀膜、涂光刻胶、曝光、显影、蚀刻、去除光刻胶等制程。蚀刻制程分为干法蚀刻与湿法蚀刻。湿法蚀刻是使用液体化学试剂,即蚀刻药液以化学腐蚀的方式去除无光刻胶覆盖的薄膜,以在玻璃基板上形成所需的电路图案。

现有技术中,对TFT-LCD的玻璃基板进行湿法蚀刻有喷淋和浸泡两种方式。浸泡是将玻璃基板完全浸入蚀刻药液进行蚀刻。请参阅图1、图2,传统的对TFT-LCD的玻璃基板进行浸泡的方法,主要包括:步骤1’、传动装置100将待蚀刻的玻璃基板200输送入刻蚀槽300内,数个挡板400上升构成一容置空间;步骤2’、供给管路500向该由数个挡板400上升构成的容置空间内注入蚀刻药液,直至待蚀刻的玻璃基板200完全浸入蚀刻药液,进行浸泡蚀刻。上述方法需要先将玻璃基板200输送至刻蚀槽300内,再注满蚀刻药液,才能进行浸泡蚀刻,造成蚀刻制程的时间较长,不利于提高生产效率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种玻璃基板的蚀刻方法,能够缩短蚀刻制程时间,提高生产效率。

本发明的目的还在于提供一种蚀刻浸泡装置,能够使得蚀刻药液在极短的时间内浸没送到的待蚀刻的玻璃基板,利于提高生产效率,且结构简单、易实现。

为实现上述目的,本发明提供一种玻璃基板的蚀刻方法,包括如下步骤:

步骤1、提供待蚀刻的玻璃基板、刻蚀槽、蚀刻药液及供给管路;

步骤2、在刻蚀槽内设置一浸泡槽;

步骤3、所述供给管路向浸泡槽内注入蚀刻药液直至注入预定量的蚀刻药液;

步骤4、将待蚀刻的玻璃基板送入刻蚀槽内;

步骤5、升高浸泡槽直至其内蚀刻药液完全浸没玻璃基板;

步骤6、达到预定浸泡时间后,降低浸泡槽露出玻璃基板。

所述浸泡槽的材质为PVC。

所述供给管路位于浸泡槽的一侧以注入蚀刻药液。

所述浸泡槽的底部两端设有气缸,为步骤5与步骤6中所述浸泡槽的升降提供动力。

所述步骤4通过传动装置将待蚀刻的玻璃基板送入刻蚀槽内,所述传动装置包括数个位于刻蚀槽内的滚轮,所述浸泡槽包围该数个滚轮,在步骤5升高该浸泡槽后,所述数个滚轮位于浸泡槽内。

在所述步骤3注入到预定量的蚀刻药液时,所述步骤4将待蚀刻的玻璃基板送入到刻蚀槽内预定的位置。

所述玻璃基板为用于TFT-LCD的玻璃基板。

本发明还提供一种玻璃基板的蚀刻浸泡装置,包括刻蚀槽、传动装置、浸泡槽、及供给管路,所述浸泡槽位于刻蚀槽内,所述传动装置包括数个位于刻蚀槽内的滚轮,所述浸泡槽包围该数个滚轮,所述供给管路用于供给蚀刻药液给浸泡槽。

所述浸泡槽的材质为PVC。

该蚀刻浸泡装置还包括设于所述浸泡槽的底部两端的气缸,为所述浸泡槽于刻蚀槽内的升降提供动力。

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