[发明专利]含有吡啶环的化合物、及卤代甲基吡啶衍生物以及四唑基肟衍生物的制造方法有效
| 申请号: | 201410283225.2 | 申请日: | 2011-03-11 |
| 公开(公告)号: | CN104072483A | 公开(公告)日: | 2014-10-01 |
| 发明(设计)人: | 宫崎秀和;谷中悟;坪仓史朗;杉浦忠司;野田薰;铃木显吾 | 申请(专利权)人: | 日本曹达株式会社 |
| 主分类号: | C07D401/12 | 分类号: | C07D401/12 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 金世煜;苗堃 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: |
本发明提供能够在工业上有利地合成且可用作用于制造显示杀菌活性的四唑基肟衍生物的中间体的下述含有吡啶环的化合物、以及2-取代氨基-6-卤代甲基吡啶衍生物以及四唑基肟衍生物的工业上有利的制造方法。所述含有吡啶环的化合物用式(1)表示(R0表示C1-6烷氧基、C1-6烷氧基C1-6烷氧基等,R1表示C1-2烷氧基羰基、乙酰基等,Z表示卤素原子、氰基等,X表示卤素原子,n为0~3中的任一整数)。 |
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| 搜索关键词: | 含有 吡啶 化合物 甲基 衍生物 以及 四唑基肟 制造 方法 | ||
【主权项】:
式(10)表示的四唑基肟衍生物的制造方法,其中,包括:使式(8)表示的四唑基羟基亚氨基衍生物与式(7)表示的卤代甲基吡啶衍生物反应而得到式(9)表示的四唑基肟衍生物的工序C1,以及使碱作用于所述工序C1中得到的式(9)表示的四唑基肟衍生物的工序C2,
式(7)中,R1C表示无取代或具有取代基的烷基、无取代或具有取代基的烷氧基,R2C表示无取代或具有取代基的烷氧基羰基、无取代或具有取代基的酰基,X表示卤素原子,Z表示卤素原子、氰基、硝基、羟基、硫醇基、甲酰基、羧基、无取代或具有取代基的氨基、无取代或具有取代基的烷基、无取代或具有取代基的烯基、无取代或具有取代基的炔基、无取代或具有取代基的芳基、无取代或具有取代基的杂环基、OR3、S(O)pR3、COR3、或CO2R3,其中,R3表示无取代或具有取代基的氨基、无取代或具有取代基的烷基、无取代或具有取代基的烯基、无取代或具有取代基的炔基、无取代或具有取代基的芳基、或者无取代或具有取代基的杂环基,p表示括号内的氧原子的数目且为0~2中的任一整数,m表示Z的取代数且为0~3中的任一整数,m为2以上时,多个Z彼此相互相同或不同,式(8)中,Y表示无取代或具有取代基的烷基,A表示卤素原子、无取代或具有取代基的烷基、无取代或具有取代基的烷氧基、氰基、无取代或具有取代基的烷基磺酰基、硝基、或者无取代或具有取代基的芳基,nc表示A的取代数且为0~5中的任一整数,nc为2以上时,A彼此相互相同或不同。
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