[发明专利]托盘组件和刻蚀设备有效
| 申请号： | 201410273661.1 | 申请日： | 2014-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN105225908B | 公开（公告）日： | 2017-07-04 |
| 发明（设计）人： | 朱印伍;刘海鹰;吴鑫;冯林军 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/20 | 分类号： | H01J37/20;H01J37/305 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人： | 彭瑞欣,张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种托盘组件，包括托盘和设置在所述托盘上的支撑件，所述支撑件用于支撑多个基片，并使得所述基片的底表面与所述托盘的表面之间形成有容纳冷却气体的间隙，所述支撑件包括设置在第一预定位置的第一支撑件和设置在第二预定位置的第二支撑件，所述第一支撑件凸出于所述托盘的表面的高度小于所述第二支撑件凸出于所述托盘的表面的高度，以使所述第一支撑件所支撑的基片与所述托盘的表面之间的间隙小于所述第二支撑件所支撑的基片与所述托盘的表面之间的间隙，所述第一预定位置对应于利用所述托盘组件进行等离子刻蚀时等离子浓度较低的区域。相应地，本发明还提供一种刻蚀设备。本发明能够提高不同区域内的基片刻蚀速率的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 托盘 组件 刻蚀 设备 | ||
【主权项】：
一种托盘组件，包括托盘和设置在所述托盘上的支撑件，所述支撑件用于支撑多个基片，并使得所述基片的底表面与所述托盘的表面之间形成有容纳冷却气体的间隙，其特征在于，所述支撑件包括设置在第一预定位置的第一支撑件和设置在第二预定位置的第二支撑件，所述第一支撑件凸出于所述托盘的表面的高度小于所述第二支撑件凸出于所述托盘的表面的高度，以使所述第一支撑件所支撑的基片与所述托盘的表面之间的间隙小于所述第二支撑件所支撑的基片与所述托盘的表面之间的间隙，所述第一预定位置对应于利用所述托盘组件进行等离子刻蚀时等离子浓度较低的区域。
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