[发明专利]基于吸气剂薄膜的混合晶圆级真空封装方法及结构有效
申请号: | 201410264566.5 | 申请日: | 2014-06-13 |
公开(公告)号: | CN104003352B | 公开(公告)日: | 2018-07-06 |
发明(设计)人: | 冯飞;张云胜;王跃林 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00;B81B7/02 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 李仪萍 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种基于吸气剂薄膜的混合晶圆级真空封装方法及结构,该方法包括步骤:a)提供一垫片、一衬底片及一盖片,于所述垫片中形成芯片封装腔;b)键合所述垫片及所述衬底片;c)将待封装芯片通过键合结构键合于所述衬底片;d)提供吸气剂,并将所述吸气剂固定于朝向所述芯片封装腔的盖片表面;e)键合所述盖片及所述垫片并激活吸气剂。本发明基于MEMS技术制作封装腔体,将非致冷红外探测器芯片置于芯片封装腔内完成真空封装,有利于保护非致冷红外探测器芯片上脆弱的微结构,且具有了圆片级封装的效率;采用吸气剂薄膜维持腔体的真空度,可降低真空封装的体积;只对已通过测试的非致冷红外探测器芯片进行真空封装,降低了封装成本。 | ||
搜索关键词: | 吸气剂 真空封装 芯片 非致冷红外探测器 衬底片 封装腔 垫片 键合 薄膜 晶圆级 盖片 圆片级封装 封装腔体 封装芯片 盖片表面 键合结构 微结构 腔体 封装 激活 测试 制作 | ||
【主权项】:
1.一种基于吸气剂薄膜的混合晶圆级真空封装方法,其特征在于,包括以下步骤:a)提供一垫片、一衬底片及一盖片,于所述垫片中形成芯片封装腔,于所述衬底片中形成用于待封装芯片引线的通孔结构,或于所述盖片中形成用于待封装芯片引线的通孔结构,并于所述衬底片的通孔结构中形成金属柱,或于所述盖片的通孔结构中形成金属柱;b)键合所述垫片及所述衬底片形成封装腔体;c)提供一已通过测试的待封装芯片,将所述已通过测试的待封装芯片通过键合结构键合于所述衬底片,或将所述已通过测试的待封装芯片通过键合结构键合于所述盖片;d)提供吸气剂,并将所述吸气剂固定于朝向所述芯片封装腔的盖片表面;e)提供一真空设备,将所述封装腔体和盖片对准后,进行抽真空、激活吸气剂及加热加压,通过键合结构键合所述盖片及所述垫片。
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