[发明专利]一种在铝表面制备高纯度刚玉涂层的方法有效
| 申请号： | 201410251421.1 | 申请日： | 2014-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN104032349B | 公开（公告）日： | 2017-01-11 |
| 发明（设计）人： | 隋曼龄;朱陆军;张跃飞 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | C25D11/04 | 分类号： | C25D11/04 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司11203 | 代理人： | 刘萍 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种在铝表面制备高纯度刚玉涂层的方法涉及铝表面高纯度刚玉涂层的制备。先采用15～25A/dm2的大电流密度下前处理0.5～2分钟，再利用传统等离子体微弧氧化技术，电解液选用11.0～13.0g/L铝酸钠溶液，阳极为铝工件，阴极为纯铜板或不锈钢板。当处理时间仅仅为20分钟时获得了17μm厚的涂层，其中刚玉的含量已经达到95.7％(wt％，下同)，涂层致密孔隙率低；随着处理时间的增长，刚玉的含量逐步增加，60分钟时刚玉含量高达97.7％。本发明与能在铝及合金表面获得高纯度的刚玉涂层，使原本柔软的铝及铝合金获得了刚玉材料的超硬耐磨、耐腐蚀、耐高温等方面的性能。本发明可用于拓展铝及其合金的使用领域及制备刚玉高级研磨材料等方面。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 表面 制备 纯度 刚玉 涂层 方法 | ||
【主权项】：
一种在铝表面制备高纯度刚玉涂层的方法，其特征在于：先采用15～25A/dm2的大电流密度下前处理0.5～2分钟，前处理的电解液选用11.0～13.0g/L铝酸钠溶液，阳极为铝工件，阴极为纯铜板或不锈钢板；再利用传统等离子体微弧氧化技术，等离子体微弧氧化工艺参数为：恒流脉冲电源，电流密度为5‑15A/dm2，脉冲频率100～1000Hz，占空比为30～80％，电解液温度通过冷却系统保持在40℃以下，处理时间为10～60分钟。
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