[发明专利]全光纤激光干涉光刻设备和方法有效
| 申请号： | 201410224663.1 | 申请日： | 2014-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN105467769B | 公开（公告）日： | 2022-03-11 |
| 发明（设计）人： | 李文迪 | 申请（专利权）人： | 李文迪 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/28 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 倪斌 |
| 地址： | 100020 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提出了一种全光纤激光干涉光刻设备及其方法。所述全光纤激光干涉光刻设备包括：输入耦合光纤，配置为将来自激光光源的相干激光光束耦合至光纤分束器；光纤分束器，配置为将来自输入耦合光纤的相干激光分束为至少两个子激光束，并且通过两个或多个输出耦合光纤输出所述子激光束；调节单元，配置为固定所述输出耦合光纤，并且调节所述输出耦合光纤的位置和角度，以调节照射到衬底上的子激光束。 | ||
| 搜索关键词： | 光纤 激光 干涉 光刻 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种全光纤激光干涉光刻设备，包括：输入耦合光纤，配置为将来自激光光源的相干激光光束耦合至光纤分束器；光纤分束器，配置为将来自输入耦合光纤的相干激光分束为至少两个子激光束，并且通过两个或多个输出耦合光纤输出所述子激光束；调节单元，配置为固定所述输出耦合光纤，并且调节所述输出耦合光纤的位置和角度，以调节照射到衬底上的子激光束；相位检测器，位于衬底和移动台上，配置为实时检测子激光束的相位变化；以及支撑衬底的样品台，基于检测到的相位变化对调节单元进行反馈控制，从而对相位扰动进行补偿。
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