[发明专利]一种光催化自清洁口罩的制备方法有效
| 申请号： | 201410219837.5 | 申请日： | 2014-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN103989269A | 公开（公告）日： | 2014-08-20 |
| 发明（设计）人： | 高晶;李婉迪;王璐;刘军;汤宏宇 | 申请（专利权）人： | 东华大学 |
| 主分类号： | A41D13/11 | 分类号： | A41D13/11 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人： | 翁若莹 |
| 地址： | 201620 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光催化自清洁口罩的制备方法，其特征在于，具体步骤包括：第一步：制备TiO2/SiO2混合溶胶；第二步：将口罩去杂质，清洗，再将口罩进行射频等离子体预处理；第三步：将射频等离子体预处理后的口罩浸渍在TiO2/SiO2混合溶胶中，采用二浸二轧工艺，然后在70-90℃下干燥3-8分钟后，在100-150℃下固化1-5分钟；用去离子水清洗后放在自然条件下干燥，得到光催化自清洁口罩。本发明制备方法所制得的自清洁口罩，自清洁效果好，效果持久。制备方法可适用于工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光催化 清洁 口罩 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种光催化自清洁口罩的制备方法，其特征在于，具体步骤包括：第一步：制备TiO2/SiO2混合溶胶；第二步：将口罩去杂质，清洗，再将口罩进行射频等离子体预处理；第三步：将射频等离子体预处理后的口罩浸渍在TiO2/SiO2混合溶胶中，采用二浸二轧工艺，然后在70‑90℃下干燥3‑8分钟后，在100‑150℃下固化1‑5分钟；用去离子水清洗后放在自然条件下干燥，得到光催化自清洁口罩。
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