[发明专利]一种辐射致可变梯度色差变色薄膜剂量计及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201410218945.0 申请日: 2014-05-23
公开(公告)号: CN103995274A 公开(公告)日: 2014-08-20
发明(设计)人: 汤晓斌;孙嘉琪;冯喜;刘泽宁;余宏伟;王乙 申请(专利权)人: 南京航空航天大学
主分类号: G01T1/04 分类号: G01T1/04
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 李纪昌;曹翠珍
地址: 210016 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种辐射致可变梯度色差变色薄膜剂量计及其制备方法,薄膜剂量计包括第一聚酯基片,辐照敏感变色薄膜和通过热压法覆盖在辐照敏感变色薄膜上的第二聚酯基片,所述第一聚酯基片上刻有凹槽,所述辐照敏感变色薄膜设于第一聚酯基片的凹槽内。制备方法为先制备带凹槽的第一聚酯基片,再将制备好的辐照敏感变色溶液滴入上述凹槽中烘干得辐照敏感变色薄膜,最后将第二聚酯基片压在薄膜上得辐射致可变梯度色差变色薄膜剂量计。本发明公开的辐射致可变梯度色差变色薄膜剂量计高敏感性,通过颜色梯度变化来表征受照剂量大小的特点,使辐照剂量值的读取更加直观便捷;同时采用凹槽夹层结构,避免外界环境及人为的因素对薄膜的损害,延长了使用寿命。
搜索关键词: 一种 辐射 可变 梯度 色差 变色 薄膜 剂量计 及其 制备 方法
【主权项】:
一种辐射致可变梯度色差变色薄膜剂量计,其特征在于:包括第一聚酯基片(1),辐照敏感变色薄膜(2)和通过热压法覆盖在辐照敏感变色薄膜(2)上的第二聚酯基片(3),所述第一聚酯基片(1)上刻有凹槽,所述辐照敏感变色薄膜(2)设于第一聚酯基片(1)的凹槽内。
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