[发明专利]一种液晶光掩膜、其应用及制版装置有效
| 申请号： | 201410197564.9 | 申请日： | 2014-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN103955087B | 公开（公告）日： | 2017-01-04 |
| 发明（设计）人： | 杨涛 | 申请（专利权）人： | 青岛斯博锐意电子技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G02F1/1335;G02F1/13357;G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266109 山东省青岛市青岛高新技术产业*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 一种液晶光掩膜、其应用及制版装置。该光掩膜包括，成像控制器，导光层，第一光学偏转片，液晶层和第二光学偏转片；所述液晶层夹设于第一光学偏转片与第二光学偏转片之间；第一光学偏转片与液晶层接触的表面上设置有第一透明电极层；第二光学偏转片与液晶层接触的表面上设置有第二透明导电层；所述第一光学偏转片与第二光学偏转片的偏振方向夹角为90度；所述导光层设置于第一光学偏转片的光入射的一侧。本发明提供了一种无需更换掩膜实现多掩膜套印，精度高且精度可调节，稳定性好、能长时间工作的液晶光掩膜，并将其用于制版中代替菲林。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 液晶 光掩膜 应用 制版 装置 | ||
【主权项】：
一种液晶光掩膜，其特征在于，所述光掩膜包括：成像控制器，导光层，第一光学偏转片，液晶层和第二光学偏转片；所述液晶层夹设于第一光学偏转片与第二光学偏转片之间；第一光学偏转片与液晶层接触的表面上设置有第一透明电极层；第二光学偏转片与液晶层接触的表面上设置有第二透明导电层；所述第一光学偏转片与第二光学偏转片的偏振方向夹角为90度；所述导光层设置于第一光学偏转片的光入射的一侧；所述成像控制器用于在第一透明电极层和第二透明电极层施加相应电信号，使所述液晶层中相应区域的液晶发生偏转，形成目标图像，遮掩曝光光源照射光线；未发生液晶偏转的区域成光透过状态；所述导光层将入射光整理为平行光，所述平行光入射第一光学偏转片。
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