[发明专利]电化学抛光供液装置有效
| 申请号： | 201410190482.1 | 申请日： | 2014-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN105088328B | 公开（公告）日： | 2018-11-06 |
| 发明（设计）人： | 代迎伟;金一诺;王坚;王晖 | 申请（专利权）人： | 盛美半导体设备(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C25F7/00 | 分类号： | C25F7/00;C25F7/02;C25F3/22 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陆嘉 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种电化学抛光供液装置，包括腔室、第一抛光液槽、第二抛光液槽、第一喷头、第二喷头及电源。腔室开设有排液口。第一抛光液槽盛有抛光液，第一抛光液槽与腔室的排液口连接。第二抛光液槽盛有抛光液。第一喷头的上端口设置在腔室内，第一喷头的下端口设置在第一抛光液槽内，第一喷头通过其上端口将第一抛光液槽内的抛光液喷射至待抛光晶圆的表面。第二喷头的上端口设置在腔室内，第二喷头的下端口设置在第二抛光液槽内，第二喷头通过其上端口将第二抛光液槽内的抛光液喷射至待抛光晶圆的外边缘。电源的阴极与第一喷头电连接，电源的阳极与第二喷头电连接。 | ||
| 搜索关键词： | 电化学 抛光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种电化学抛光供液装置，其特征在于，包括：腔室，所述腔室开设有排液口；第一抛光液槽，所述第一抛光液槽盛有抛光液，第一抛光液槽与所述腔室的排液口连接；第二抛光液槽，所述第二抛光液槽盛有抛光液；第一喷头，所述第一喷头的上端口设置在所述腔室内，第一喷头的下端口设置在所述第一抛光液槽内，第一喷头通过其上端口将第一抛光液槽内的抛光液喷射至待抛光晶圆的表面；第二喷头，所述第二喷头的上端口设置在所述腔室内，第二喷头的下端口设置在所述第二抛光液槽内，第二喷头通过其上端口将第二抛光液槽内的抛光液喷射至待抛光晶圆的外边缘；及电源，所述电源的阴极与所述第一喷头电连接，电源的阳极与所述第二喷头电连接。
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